Como fabricante profesional, nos gustaría ofrecerle SiC Epitaxy. Y le ofreceremos el mejor servicio postventa y entrega oportuna. Semicorex suministra susceptor de grafito recubierto de carburo de silicio CVD que se utiliza para soportar obleas. Su construcción de grafito recubierto de carburo de silicio (SiC) de alta pureza proporciona una resistencia al calor superior, uniformidad térmica uniforme para un espesor y resistencia consistentes de la capa Epi y una resistencia química duradera. El fino recubrimiento de cristal de SiC proporciona una superficie limpia y lisa, fundamental para la manipulación, ya que las obleas prístinas entran en contacto con el susceptor en muchos puntos de toda su área.
Semicorex presenta su susceptor de disco de SiC, diseñado para elevar el rendimiento de los equipos de epitaxia, deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD) y procesamiento térmico rápido (RTP). El susceptor de disco de SiC meticulosamente diseñado proporciona propiedades que garantizan un rendimiento, durabilidad y eficiencia superiores en entornos de vacío y alta temperatura.**
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC ALD Susceptor ofrece numerosas ventajas en los procesos ALD, incluida la estabilidad a altas temperaturas, una mayor uniformidad y calidad de la película, una mayor eficiencia del proceso y una mayor vida útil del susceptor. Estos beneficios hacen del Susceptor SiC ALD una herramienta valiosa para lograr películas delgadas de alto rendimiento en diversas aplicaciones exigentes.**
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor planetario Semicorex ALD es importante en los equipos ALD debido a su capacidad para soportar duras condiciones de procesamiento, lo que garantiza la deposición de películas de alta calidad para una variedad de aplicaciones. A medida que continúa creciendo la demanda de dispositivos semiconductores avanzados con dimensiones más pequeñas y rendimiento mejorado, se espera que el uso del susceptor planetario ALD en ALD se expanda aún más.**
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor de epitaxia MOCVD de Semicorex se ha convertido en un componente crítico en la epitaxia de deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD), lo que permite la fabricación de dispositivos semiconductores de alto rendimiento con una eficiencia y precisión excepcionales. Su combinación única de propiedades materiales lo hace perfectamente adecuado para los exigentes entornos térmicos y químicos que se encuentran durante el crecimiento epitaxial de semiconductores compuestos.**
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC Multi Pocket Susceptor representa una tecnología habilitadora fundamental en el crecimiento epitaxial de obleas semiconductoras de alta calidad. Fabricados mediante un sofisticado proceso de deposición química de vapor (CVD), estos susceptores proporcionan una plataforma robusta y de alto rendimiento para lograr una uniformidad excepcional de la capa epitaxial y una eficiencia del proceso.**
Leer másEnviar ConsultaExisten amplias propiedades del disco de epitaxia recubierto de SiC de Semicorex que lo convierten en un componente indispensable en la fabricación de semiconductores, donde la precisión, durabilidad y robustez de los equipos son fundamentales para el éxito de los dispositivos semiconductores de alta tecnología. En Semicorex nos dedicamos a fabricar y suministrar discos de epitaxia recubiertos de SiC de alto rendimiento que fusionan calidad con rentabilidad.**
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