Semicorex presenta su susceptor de disco de SiC, diseñado para elevar el rendimiento de los equipos de epitaxia, deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD) y procesamiento térmico rápido (RTP). El susceptor de disco de SiC meticulosamente diseñado proporciona propiedades que garantizan un rendimiento, durabilidad y eficiencia superiores en entornos de vacío y alta temperatura.**
Con un profundo compromiso con la calidad y la innovación, el susceptor de disco de SiC ultrapuro de Semicorex establece un nuevo estándar de rendimiento en equipos de epitaxia, MOCVD y RTP. Al combinar una resistencia excepcional al choque térmico, una conductividad térmica superior, una resistencia química excepcional y una pureza ultra alta, estos componentes de ingeniería permiten a los fabricantes de semiconductores lograr una eficiencia, confiabilidad y calidad de producto incomparables. Las soluciones personalizables de Semicorex garantizan además que cada aplicación de procesamiento térmico se beneficie de componentes optimizados y diseñados con precisión para satisfacer sus demandas únicas.
Excelente resistencia al choque térmico:El susceptor de disco de SiC destaca por resistir rápidas fluctuaciones de temperatura, que son comunes en RTP y otros procesos de alta temperatura. Esta excepcional resistencia al choque térmico garantiza la integridad estructural y la longevidad, minimizando el riesgo de daños o fallas debido a cambios repentinos de temperatura y mejorando la confiabilidad del equipo de procesamiento térmico.
Conductividad térmica superior:La transferencia de calor eficiente es fundamental en las aplicaciones de procesamiento térmico. La excelente conductividad térmica del susceptor de disco de SiC garantiza un calentamiento y enfriamiento rápidos y uniformes, esenciales para un control preciso de la temperatura y la uniformidad del proceso. Esto conduce a una mayor eficiencia del proceso, tiempos de ciclo reducidos y obleas semiconductoras de mayor calidad.
Resistencia química excepcional:El susceptor de disco de SiC proporciona una resistencia excepcional a una amplia gama de productos químicos corrosivos y reactivos utilizados en procesos de epitaxia, MOCVD y RTP. Esta inercia química protege el grafito subyacente de la degradación, previene la contaminación del entorno del proceso y garantiza un rendimiento constante durante períodos operativos prolongados.
Pureza ultraalta: El Susceptor de disco de SiC se fabrica con estándares de pureza ultra altos tanto para el recubrimiento de grafito como de SiC, lo que evita el potencial de contaminación y garantiza la producción de dispositivos semiconductores sin defectos. Este compromiso con la pureza significa mayores rendimientos y un mejor rendimiento del dispositivo.
Disponibilidad de formas complejas:Las capacidades de fabricación avanzadas de Semicorex permiten la producción del susceptor de disco de SiC en formas complejas adaptadas a los requisitos específicos del cliente. Esta flexibilidad permite el diseño de soluciones personalizadas que satisfacen las necesidades precisas de diversas aplicaciones de procesamiento térmico, mejorando la eficiencia del proceso y la compatibilidad de los equipos.
Utilizable en atmósferas oxidantes:El robusto revestimiento CVD SiC proporciona una excelente protección contra la oxidación, lo que permite que el susceptor de disco SiC funcione de manera confiable en ambientes oxidantes. Esto amplía su aplicabilidad a una gama más amplia de procesos térmicos, asegurando versatilidad y adaptabilidad.
Rendimiento robusto y repetible:Diseñado para entornos de vacío y alta temperatura, el susceptor de disco de SiC ofrece un rendimiento sólido y repetible. Su durabilidad y consistencia los hacen ideales para aplicaciones críticas de procesamiento térmico, reduciendo el tiempo de inactividad, los costos de mantenimiento y garantizando confiabilidad operativa a largo plazo.
Semicorex se especializa en personalizar componentes recubiertos con CVD SiC para satisfacer las diversas necesidades de los equipos de procesamiento térmico, que incluyen:
Difusores:Mejore la uniformidad de la distribución de gas y la consistencia del proceso.
Aisladores:Proporciona aislamiento térmico y protección en ambientes de alta temperatura.
Otros componentes térmicos personalizados:Soluciones personalizadas diseñadas para cumplir con requisitos de procesos específicos y optimizar el rendimiento del equipo.