Piezas de la segunda mitad para deflectores inferiores en proceso epitaxial

Las piezas de la segunda mitad para deflectores inferiores en el proceso epitaxial presentan una forma semicilíndrica distintiva, estratégicamente diseñada para optimizar el flujo de gas dentro del reactor epitaxial. Fabricadas con grafito de alta calidad con revestimientos CVD SiC, estas piezas garantizan una durabilidad y estabilidad térmica excepcionales. Diseñados para soportar los rigores de la fabricación de semiconductores, contribuyen a la longevidad y confiabilidad de su equipo.
Los componentes están intrincadamente diseñados para optimizar el flujo de gas, asegurando una distribución y deposición eficiente de materiales durante el proceso de crecimiento epitaxial. Esto da como resultado una calidad de capa superior en las obleas semiconductoras.

Aplicaciones:

Diseñado para reactores epitaxiales dentro de la fabricación de semiconductores.

Componentes críticos para lograr un crecimiento epitaxial preciso y uniforme.

Aumente sus capacidades de fabricación de semiconductores con nuestras piezas de la segunda mitad para deflectores inferiores en procesos epitaxiales. Confíe en la innovación y confiabilidad de nuestros componentes semicilíndricos, recubiertos con CVD SiC para una mayor durabilidad. Manténgase a la vanguardia de la tecnología de semiconductores con estos accesorios avanzados, que garantizan un rendimiento óptimo y una calidad constante de la capa epitaxial. Elija piezas de la segunda mitad para deflectores inferiores en el proceso epitaxial, donde la precisión se une al progreso.