Portador de obleas semiconductoras para equipos MOCVD

Puede estar seguro de comprar un portador de obleas semiconductoras para equipos MOCVD en nuestra fábrica. Los portadores de obleas semiconductoras son un componente esencial de los equipos MOCVD. Se utilizan para transportar y proteger obleas semiconductoras durante el proceso de fabricación. Los portadores de obleas semiconductoras para equipos MOCVD están fabricados con materiales de alta pureza y están diseñados para mantener la integridad de las obleas durante el procesamiento.

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Descripción del Producto

Nuestro portador de obleas semiconductoras para equipos MOCVD es un componente esencial del proceso de fabricación de semiconductores. Está hecho de grafito de alta pureza con recubrimiento de carburo de silicio mediante el método CVD y está diseñado para acomodar múltiples obleas. El transportador ofrece varios beneficios, incluido un mayor rendimiento, mayor productividad, menor contaminación, mayor seguridad y rentabilidad. Si está buscando un portador de obleas semiconductoras confiable y de alta calidad para equipos MOCVD, nuestro producto es la solución perfecta.
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Parámetros del portador de obleas semiconductoras para equipos MOCVD

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características del susceptor de grafito recubierto de SiC para MOCVD

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.
Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C
Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.
Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.
Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.
- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar
- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.
- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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