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Placa portadora de grabado PSS para semiconductores
Semicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor está especialmente diseñado para entornos de limpieza química agresivos y de alta temperatura necesarios para el crecimiento epitaxial y los procesos de manipulación de obleas. Nuestra placa portadora de grabado PSS ultra pura para semiconductores está diseñada para soportar obleas durante las fases de deposición de película delgada como MOCVD y susceptores de epitaxia, panqueques o plataformas satelitales. Nuestro soporte recubierto de SiC tiene una alta resistencia al calor y a la corrosión, excelentes propiedades de distribución del calor y una alta conductividad térmica. Brindamos soluciones rentables a nuestros clientes y nuestros productos cubren muchos mercados europeos y estadounidenses. Semicorex espera ser su socio a largo pla......
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Portador de grabado de PSS recubierto de SiC
Los portadores de obleas que se utilizan en el crecimiento epixial y el procesamiento de manipulación de obleas deben soportar altas temperaturas y una limpieza química intensa. Semicorex SiC Coated PSS Etching Carrier diseñado específicamente para estas exigentes aplicaciones de equipos de epitaxia. Nuestros productos tienen una buena ventaja de precio y cubren muchos de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
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Susceptor de barril recubierto de SiC para crecimiento epitaxial de LPE
El susceptor cilíndrico recubierto de SiC Semicorex para crecimiento epitaxial de LPE es un producto de alto rendimiento diseñado para proporcionar un rendimiento consistente y confiable durante un período prolongado. Su perfil térmico uniforme, patrón de flujo de gas laminar y prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de capas epitaxiales de alta calidad en chips de obleas. Su personalización y rentabilidad lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
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Barril Susceptor Epi System para epitaxia LPE
Semicorex Barrel Susceptor Epi System para LPE Epitaxy es un producto de alta calidad que ofrece una adhesión de recubrimiento superior, alta pureza y resistencia a la oxidación a alta temperatura. Su perfil térmico uniforme, patrón de flujo de gas laminar y prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su rentabilidad y personalización lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
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Sistema de reactor de epitaxia en fase líquida (LPE)
El sistema de reactor de epitaxia en fase líquida (LPE) de Semicorex es un producto innovador que ofrece un rendimiento térmico excelente, un perfil térmico uniforme y una adhesión superior del recubrimiento. Su alta pureza, resistencia a la oxidación a alta temperatura y resistencia a la corrosión lo convierten en una opción ideal para su uso en la industria de los semiconductores. Sus opciones personalizables y su rentabilidad lo convierten en un producto altamente competitivo en el mercado.
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Deposición epitaxial CVD en reactor de barril
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor es un producto altamente duradero y confiable para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su resistencia a la oxidación a alta temperatura y su alta pureza lo hacen adecuado para su uso en la industria de los semiconductores. Su perfil térmico uniforme, patrón de flujo de gas laminar y prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de la capa epixial de alta calidad.
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