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El cabezal de ducha Semicorex CVD-SiC proporciona durabilidad, excelente gestión térmica y resistencia a la degradación química, lo que lo convierte en una opción adecuada para procesos CVD exigentes en la industria de semiconductores. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

En un aparato de plasma para grabado y deposición química de vapor (CVD) de materiales en obleas, los gases de proceso se suministran a una cámara de proceso a través de un cabezal de ducha de grafito recubierto de SiC CVD. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

La paleta voladiza de carburo de silicio Semicorex es un componente especializado que se utiliza en hornos para diversas aplicaciones de procesamiento térmico. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

La paleta voladiza de cerámica SiC de carburo de silicio con gran fuerza de carga de obleas es adecuada para un sistema automático de carga y manipulación de robots porque tiene un rendimiento estable, no se deforma a altas temperaturas y una gran fuerza de carga de obleas. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

El sustrato de oblea Semicorex 3C-SiC está hecho de SiC con cristal cúbico. Somos fabricantes y proveedores de obleas semiconductoras desde hace muchos años. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

El susceptor de panqueques Semicorex para el proceso epitaxial de obleas es una base de grafito de alta pureza recubierta de CVD SiC. Nuestro susceptor de panqueques para el proceso epitaxial de obleas tiene una buena ventaja de precio y cubre la mayoría de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.