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Susceptor tipo panqueque para el proceso epitaxial de oblea

Susceptor tipo panqueque para el proceso epitaxial de oblea

El susceptor de panqueques Semicorex para el proceso epitaxial de obleas es una base de grafito de alta pureza recubierta de CVD SiC. Nuestro susceptor de panqueques para el proceso epitaxial de obleas tiene una buena ventaja de precio y cubre la mayoría de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

La epitaxia de oblea es una técnica utilizada para hacer crecer películas cristalinas de alta calidad sobre un sustrato semiconductor. Implica colocar el sustrato dentro de una cámara de reactor y exponerlo a un ambiente controlado donde se deposita el material deseado capa por capa.

El susceptor en forma de panqueque para el proceso epitaxial de oblea es una forma redonda del susceptor de grafito, que se utiliza en diversos procesos de semiconductores, como la deposición química de vapor (CVD) o la deposición física de vapor (PVD), para mejorar la uniformidad de la temperatura y promover el crecimiento de la película. 





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