Portadores de obleas MOCVD para la industria de semiconductores

Los portadores de obleas Semicorex MOCVD para la industria de semiconductores son un portador de primera línea diseñado para su uso en la industria de semiconductores. Su material de alta pureza garantiza un perfil térmico uniforme y un patrón de flujo de gas laminar, lo que proporciona obleas de alta calidad.

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Descripción del Producto

Nuestros transportadores de obleas MOCVD para la industria de semiconductores son de alta pureza y se fabrican mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura, lo que garantiza la uniformidad y consistencia del producto. También es altamente resistente a la corrosión, con una superficie densa y partículas finas, lo que lo hace resistente a ácidos, álcalis, sales y reactivos orgánicos. Su resistencia a la oxidación a altas temperaturas garantiza la estabilidad a altas temperaturas de hasta 1600 °C.
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Parámetros de los portadores de obleas MOCVD para la industria de semiconductores

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características del susceptor de grafito recubierto de SiC para MOCVD

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.
Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C
Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.
Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.
Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.
- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar
- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.
- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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