El cabezal de ducha Semicorex CVD SiC es un componente central utilizado en equipos de grabado de semiconductores y sirve como electrodo y conducto para gases de grabado. Elija Semicorex por su control superior de materiales, tecnología de procesamiento avanzada y rendimiento confiable y duradero en aplicaciones de semiconductores exigentes.*
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha metálico, conocido como placa de distribución de gas o cabezal de ducha de gas, es un componente crítico ampliamente utilizado en los procesos de fabricación de semiconductores. Su función principal es distribuir uniformemente los gases en una cámara de reacción, asegurando que los materiales semiconductores entren en contacto uniforme con el proceso. gases.**
Leer másEnviar ConsultaLa pieza de sello cerámico Semicorex SiC es un testimonio de la ciencia de los materiales y la ingeniería de vanguardia, diseñada para satisfacer las exigentes demandas de las aplicaciones de sellado mecánico de alto rendimiento en una variedad de industrias.**
Leer másEnviar ConsultaEl calentador MOCVD de Semicorex es un componente altamente avanzado y meticulosamente diseñado que ofrece una multitud de ventajas, que incluyen pureza química excepcional, eficiencia térmica, conductividad eléctrica, alta emisividad, resistencia a la corrosión, inoxidabilidad y resistencia mecánica.**
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor Semicorex MOCVD 3x2'' desarrollado por Semicorex representa un pináculo de innovación y excelencia en ingeniería, diseñado específicamente para satisfacer las intrincadas demandas de los procesos de fabricación de semiconductores contemporáneos.**
Leer másEnviar ConsultaSemicorex TaC Coating Wafer Susceptor es una bandeja de grafito recubierta con carburo de tantalio, que se utiliza en el crecimiento epitaxial de carburo de silicio para mejorar la calidad y el rendimiento de la oblea. Elija Semicorex por su tecnología de recubrimiento avanzada y soluciones duraderas que garantizan resultados superiores de epitaxia de SiC y una vida útil prolongada del susceptor.*
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