Mandril de oblea GaN-on-Si Epi

Semicorex GaN-on-Si Epi Wafer Chuck es parte integral de la fabricación de semiconductores, lo que permite un soporte estable y confiable durante procesos críticos como deposición, grabado y litografía. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck garantiza una disipación de calor eficiente, manteniendo una distribución uniforme de la temperatura en toda la oblea para evitar gradientes térmicos que podrían causar defectos. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck está disponible en varios tamaños y configuraciones para adaptarse a diferentes dimensiones de oblea y requisitos de procesamiento, ofreciendo flexibilidad para diversas necesidades de fabricación de semiconductores.

Aplicaciones:

Crecimiento epitaxial: GaN-on-Si Epi Wafer Chuck proporciona una plataforma estable para el crecimiento de capas de GaN de alta calidad sobre sustratos de silicio. GaN-on-Si Epi Wafer Chuck es esencial para dispositivos electrónicos y optoelectrónicos de alto rendimiento.

Grabado y deposición: Facilita la eliminación o deposición uniforme del material, clave para lograr las propiedades estructurales y eléctricas deseadas de los dispositivos.

El GaN-on-Si Epi Wafer Chuck es una herramienta indispensable para los fabricantes de semiconductores que buscan producir dispositivos de vanguardia basados ​​en GaN, ofreciendo un rendimiento inigualable en precisión, estabilidad y durabilidad.