Receptor semiconductor

Elaborado con grafito de alta calidad, el Susceptor Semiconductor garantiza una conductividad térmica óptima, proporcionando un entorno estable y confiable para sus procesos epitaxiales de obleas.

El semiconductor susceptor está reforzado con un recubrimiento de carburo de silicio (SiC) por deposición química de vapor (CVD), lo que mejora su durabilidad y resistencia a temperaturas extremas. Este recubrimiento avanzado garantiza un rendimiento constante, incluso en los entornos de hornos más exigentes.

La combinación de grafito y CVD SiC garantiza una distribución eficiente del calor, minimizando las variaciones de temperatura en la superficie de la oblea. Esto conduce a un crecimiento epitaxial uniforme y, en última instancia, mejora la calidad y el rendimiento de sus dispositivos semiconductores.

El Susceptor Semiconductor está diseñado para integrarse perfectamente en varios sistemas de hornos, proporcionando versatilidad y adaptabilidad a diferentes configuraciones de fabricación. Su diseño permite una fácil instalación y un funcionamiento fiable en diversos entornos de fabricación de semiconductores.

Diseñado específicamente para procesos epitaxiales de obleas, este semiconductor susceptor destaca por transportar obleas de forma segura dentro del horno. Su construcción robusta garantiza una colocación segura de la oblea, minimizando el riesgo de daño durante la fase de crecimiento epitaxial.

El núcleo de grafito duradero combinado con el recubrimiento de SiC no solo mejora el rendimiento sino que también extiende la vida útil del semiconductor susceptor. Esta longevidad se traduce en ahorros de costos con el tiempo, lo que convierte a Susceptor Semiconductor en una inversión inteligente para su instalación de fabricación de semiconductores.