El disco susceptor Semicorex es una herramienta indispensable en la deposición química de vapor metal-orgánico (MOCVD), diseñada específicamente para soportar y calentar obleas semiconductoras durante el proceso crítico de deposición de capas epitaxiales. El Susceptor Disc es fundamental en la fabricación de dispositivos semiconductores, donde el crecimiento preciso de la capa es primordial. El compromiso de Semicorex con una calidad líder en el mercado, junto con consideraciones fiscales competitivas, consolida nuestro entusiasmo por establecer asociaciones para cumplir con sus requisitos de transporte de obleas semiconductoras.
Elaborado a partir de grafito de alta pureza y recubierto con una capa de carburo de silicio (SiC) mediante la técnica MOCVD, el disco susceptor Semicorex combina propiedades térmicas excepcionales con una estabilidad química notable. El recubrimiento de carburo de silicio garantiza una excelente resistencia a altas temperaturas y condiciones corrosivas, crucial para mantener la integridad del Susceptor Disc en entornos desafiantes.
Además, el revestimiento de SiC del disco Susceptor mejora su conductividad térmica, lo que permite una distribución rápida y uniforme del calor, fundamental para un crecimiento epitaxial constante. Absorbe e irradia calor de manera eficiente, proporcionando una temperatura estable y uniforme esencial para la deposición de películas delgadas. Esta uniformidad es vital para lograr capas epitaxiales de alta calidad, que son fundamentales para la funcionalidad y el rendimiento de los dispositivos semiconductores avanzados.
El diseño del Susceptor Disc también aborda el desafío de la expansión térmica. Su mínimo coeficiente de expansión térmica asegura una fuerte unión con las capas epitaxiales, reduciendo el riesgo de agrietamiento debido al ciclo térmico. Esta característica, junto con el alto punto de fusión del Susceptor Disc y su excelente resistencia a la oxidación, permite un funcionamiento confiable en condiciones extremas.
Con estas propiedades avanzadas, Susceptor Disc no solo cumple sino que supera los estrictos requisitos de las aplicaciones MOCVD modernas, proporcionando una solución confiable y de alto rendimiento que mejora la eficiencia general y el resultado del proceso de crecimiento epitaxial.