Hogar > Productos > Recubierto de carburo de silicio > Portador de grabado PSS > Placa de grabado de silicona para aplicaciones de grabado PSS
Placa de grabado de silicona para aplicaciones de grabado PSS

Placa de grabado de silicona para aplicaciones de grabado PSS

La placa de grabado de silicio de Semicorex para aplicaciones de grabado PSS es un soporte de grafito ultrapuro de alta calidad diseñado específicamente para procesos de crecimiento epitaxial y manipulación de obleas. Nuestro transportista puede soportar ambientes hostiles, altas temperaturas y limpieza química agresiva. La placa de grabado de silicio para aplicaciones de grabado PSS tiene excelentes propiedades de distribución del calor, alta conductividad térmica y es rentable. Nuestros productos se utilizan ampliamente en muchos mercados europeos y americanos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

Enviar Consulta

Descripción del Producto

La placa de grabado de silicio de Semicorex para aplicaciones de grabado PSS está diseñada para las aplicaciones de equipos de epitaxia más exigentes. Nuestro soporte de grafito ultrapuro puede soportar entornos hostiles, altas temperaturas y limpiezas químicas agresivas. El soporte recubierto de SiC tiene excelentes propiedades de distribución del calor, alta conductividad térmica y es rentable.


Parámetros de la placa de grabado de silicona para aplicaciones de grabado PSS

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC

Propiedades de SiC-CVD

Estructura cristalina

Fase β de la FCC

Densidad

gramos/cm³

3.21

Dureza

Dureza Vickers

2500

Tamaño de grano

µm

2~10

Pureza química

%

99.99995

Capacidad calorífica

J kg-1 K-1

640

Temperatura de sublimación

2700

Fuerza flexural

MPa (RT 4 puntos)

415

Módulo de Young

Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)

430

Expansión Térmica (C.T.E)

10-6K-1

4.5

Conductividad térmica

(W/mK)

300


Características de la placa de grabado de silicona para aplicaciones de grabado PSS

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.





Etiquetas calientes: Placa de grabado de silicio para aplicaciones de grabado PSS, China, fabricantes, proveedores, fábrica, personalizada, a granel, avanzada y duradera
Categoría relacionada
Enviar Consulta
Por favor, siéntase libre de dar su consulta en el siguiente formulario. Le responderemos en 24 horas.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept