Bandeja portadora de grabado PSS para procesamiento de obleas

La bandeja portadora de grabado PSS de Semicorex para procesamiento de obleas está diseñada específicamente para las exigentes aplicaciones de equipos de epitaxia. Nuestro portador de grafito ultrapuro es ideal para fases de deposición de películas delgadas como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas tipo panqueque o satélites y procesamiento de manipulación de obleas, como el grabado. La bandeja portadora de grabado PSS para procesamiento de obleas tiene alta resistencia al calor y a la corrosión, excelentes propiedades de distribución del calor y una alta conductividad térmica. Nuestros productos son rentables y tienen una buena ventaja de precio. Atendemos a muchos mercados europeos y americanos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

La bandeja portadora de grabado PSS para procesamiento de obleas de Semicorex está diseñada para entornos hostiles necesarios para los procesos de crecimiento epitaxial y manipulación de obleas. Nuestro portador de grafito ultrapuro está diseñado para soportar obleas durante las fases de deposición de películas delgadas como MOCVD y susceptores de epitaxia, panqueques o plataformas satelitales. El soporte recubierto de SiC tiene alta resistencia al calor y a la corrosión, excelentes propiedades de distribución del calor y una alta conductividad térmica. Nuestros productos son rentables y ofrecen una buena ventaja de precio.

Parámetros de la bandeja portadora de grabado PSS para procesamiento de obleas

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características de la bandeja portadora de grabado PSS para procesamiento de obleas

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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