Transportador de manipulación PSS para transferencia de obleas

El transportador de manipulación PSS para transferencia de obleas de Semicorex está diseñado para las aplicaciones de equipos de epitaxia más exigentes. Nuestro soporte de grafito ultrapuro puede soportar entornos hostiles, altas temperaturas y limpiezas químicas agresivas. El soporte recubierto de SiC tiene excelentes propiedades de distribución del calor, alta conductividad térmica y es rentable. Nuestros productos se utilizan ampliamente en muchos mercados europeos y americanos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

El portador de manipulación PSS para transferencia de obleas de Semicorex está diseñado para cumplir con los requisitos de limpieza química agresiva y de alta temperatura para los procesos de manipulación de obleas y crecimiento epitaxial. Nuestro portador de grafito ultrapuro es ideal para fases de deposición de películas delgadas como MOCVD, susceptores de epitaxia, plataformas tipo panqueque o satélites y procesamiento de manipulación de obleas, como el grabado. El soporte recubierto de SiC tiene excelentes propiedades de distribución del calor, alta conductividad térmica y es rentable.

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Parámetros del transportador de manipulación PSS para transferencia de obleas

Especificaciones principales del recubrimiento CVD-SIC
Propiedades de SiC-CVD
Estructura cristalina	Fase β de la FCC
Densidad	gramos/cm³	3.21
Dureza	Dureza Vickers	2500
Tamaño de grano	µm	2~10
Pureza química	%	99.99995
Capacidad calorífica	J kg-1 K-1	640
Temperatura de sublimación	℃	2700
Fuerza flexural	MPa (RT 4 puntos)	415
Módulo de Young	Gpa (curvatura de 4 puntos, 1300 ℃)	430
Expansión Térmica (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Conductividad térmica	(W/mK)	300

Características del transportador de manipulación PSS para transferencia de obleas

- Evite que se despegue y garantice el recubrimiento en toda la superficie.

Resistencia a la oxidación a altas temperaturas: estable a altas temperaturas de hasta 1600 °C

Alta pureza: elaborado mediante deposición química de vapor CVD en condiciones de cloración a alta temperatura.

Resistencia a la corrosión: alta dureza, superficie densa y partículas finas.

Resistencia a la corrosión: ácidos, álcalis, sal y reactivos orgánicos.

- Lograr el mejor patrón de flujo de gas laminar

- Garantizar la uniformidad del perfil térmico.

- Prevenir cualquier contaminación o difusión de impurezas.

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