Plato satelital

La placa satelital semicorex es un portador de obleas vitales durante el proceso de crecimiento epitaxial, garantizando una deposición uniforme y una eficiencia óptima del proceso. Construida a partir de grafito de alta pureza y recubierto con una capa robusta de carburo de silicio (SIC), esta placa ofrece una estabilidad térmica excepcional, resistencia química y resistencia mecánica, solidificando su posición como un componente indispensable en la fabricación de semiconductores de alto rendimiento.

Con una base de grafito de alta pureza, la placa satélite sobresale en la conductividad térmica y la integridad estructural. ElRecubrimiento sicaumenta significativamente su durabilidad, proporcionando resistencia a alta temperatura, inercia química y reduciendo drásticamente la generación de partículas. Esta poderosa combinación asegura que la placa soporte las duras condiciones de procesamiento mientras se realiza constantemente a un alto nivel. La base de grafito facilita la transferencia de calor eficiente, asegurando una distribución de temperatura uniforme a través de la oblea, mientras que el recubrimiento SIC protege contra gases corrosivos, evitando la contaminación y extendiendo la vida útil. Además, la superficie de SIC minimiza la liberación de partículas, lo cual es fundamental para lograr la fabricación de semiconductores de alto rendimiento.

Diseñado específicamente para una integración perfecta con los sistemas Aixtron G5+, la placa satelital garantiza un posicionamiento de oblea preciso y un equilibrio rotacional, esencial para mantener condiciones térmicas estables y reducir las tasas de defectos. La composición de material avanzado de la placa no solo extiende su vida útil, sino que también reduce significativamente los costos operativos y mejora la productividad de la fabricación.

Principalmente utilizado en el proceso de deposición de vapor químico orgánico metálico (MOCVD), la placa satelital es crucial para el crecimiento de las capas epitaxiales en las obleas semiconductores. Desempeña un papel clave en la producción de dispositivos semiconductores avanzados, incluidos LED, SIC y electrónica de potencia a base de GaN, componentes fotónicos y optoelectrónicos, y dispositivos RF de alta frecuencia. Al garantizar condiciones térmicas estables y minimizar la contaminación, la placa satelital garantiza un crecimiento constante de la capa epitaxial, lo que lleva a un mayor manejo de obleas y mayores tasas de rendimiento. Su diseño optimizado asegura el soporte de obleas de manera eficiente, reduciendo los defectos y garantizando la precisión en las etapas de procesamiento de semiconductores.

La placa satelital semicorex sirve como un componente esencial para los reactores de epitaxia Aixtron G5+, proporcionando una durabilidad incomparable, resistencia química y rendimiento térmico. Su composición e ingeniería de material de vanguardia lo hacen crítico para el proceso de fabricación de semiconductores, asegurando la producción de obleas de alto rendimiento y alta calidad. Invierta en la placa satelital para elevar su fabricación de semiconductores y lograr la excelencia en los procesos de crecimiento epitaxial.