El anillo de enfoque de procesamiento de plasma Semicorex está especialmente diseñado para satisfacer las altas demandas del procesamiento de grabado por plasma en la industria de semiconductores. Nuestros componentes recubiertos de carburo de silicio avanzados y de alta pureza están fabricados para soportar entornos extremos y son adecuados para su uso en diversas aplicaciones, incluidas las capas de carburo de silicio y los semiconductores de epitaxia.
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