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Noticias
Proceso de dopaje de semiconductores
Una de las propiedades únicas de los materiales semiconductores es que su conductividad, así como su tipo de conductividad (tipo N o tipo P), se pueden crear y controlar mediante un proceso llamado dopaje. Esto implica introducir impurezas especializadas, conocidas como dopantes, en el material para......
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Proceso PECVD
La deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD) es una tecnología ampliamente utilizada en la fabricación de chips. Utiliza la energía cinética de los electrones dentro del plasma para activar reacciones químicas en la fase gaseosa, logrando así la deposición de películas delgadas.
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Detección de defectos en el procesamiento de obleas de carburo de silicio
Los sustratos de SiC son el componente más importante de la industria del carburo de silicio y representan casi el 50 % de su valor. Sin sustratos de SiC, es imposible fabricar dispositivos de SiC, lo que los convierte en el material base esencial.
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