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Sustrato de SiC tipo N de 4 pulgadas
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Sustrato de SiC tipo N de 4 pulgadas

Semicorex ofrece varios tipos de obleas de SiC 4H y 6H. Hemos sido fabricantes y proveedores de productos de carburo de silicio durante muchos años. Nuestro sustrato de SiC tipo N de 4 pulgadas tiene una buena ventaja de precio y cubre la mayoría de los mercados europeos y americanos. Esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

Semicorex tiene una línea completa de productos de obleas de carburo de silicio (SiC), que incluye sustratos 4H y 6H con obleas semiaislantes tipo N, tipo P y de alta pureza, que pueden ser con o sin epitaxia. El sustrato de SiC (carburo de silicio) tipo N de 4 pulgadas es un tipo de oblea de alta calidad hecha de un monocristal de carburo de silicio con un dopaje tipo N.

El sustrato de SiC tipo N de 4 pulgadas se utiliza principalmente en vehículos de nueva energía, transmisión y subestaciones de alto voltaje, electrodomésticos, trenes de alta velocidad, motores eléctricos, inversores fotovoltaicos, fuentes de alimentación pulsadas y otros campos, que tienen las ventajas de reducir el equipo. pérdida de energía, mejora de la confiabilidad del equipo, reducción del tamaño del equipo y mejora del rendimiento del equipo, y tienen ventajas irremplazables en la fabricación de dispositivos electrónicos de potencia.

Elementos

Producción

Investigación

Ficticio

Parámetros de cristal

politipo

4H

Error de orientación de la superficie

<11-20 >4±0,15°

Parámetros eléctricos

dopante

Nitrógeno tipo n

Resistividad

0.015-0.025ohm·cm

Parámetros mecánicos

Diámetro

99,5 - 100 mm

Espesor

350±25 micras

Orientación plana primaria

[1-100]±5°

Longitud plana primaria

32,5 ± 1,5 mm

Posición plana secundaria

90° CW desde plano primario ±5°. silicona boca arriba

Longitud plana secundaria

18±1,5 mm

televisión

≤5 micras

≤10 micras

≤20 micras

TVL

≤2 micras(5mm*5mm)

≤5 micras(5mm*5mm)

ESO

Arco

-15 μm ~ 15 μm

-35 μm ~ 35 μm

-45 μm ~ 45 μm

Urdimbre

≤20 micras

≤45 micras

≤50 micras

Rugosidad frontal (Si-face) (AFM)

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Estructura

Densidad de microtubos

≤1 unidad/cm2

≤5 unidades/cm2

≤10 c/cm2

Impurezas metálicas

≤5E10átomos/cm2

ESO

TLP

≤1500 unidades/cm2

≤3000 unidades/cm2

ESO

TSD

≤500 unidades/cm2

≤1000 unidades/cm2

ESO

Calidad frontal

Frente

Y

Acabado superficial

CMP de cara Si

Partículas

≤60ea/oblea (tamaño≥0,3μm)

ESO

Arañazos

≤2ea/mm. Longitud acumulada ≤Diámetro

Longitud acumulada≤2*Diámetro

ESO

Piel de naranja/huevos/manchas/estrías/grietas/contaminación

Ninguno

ESO

Descantillados/hendiduras/fracturas/placas hexagonales

Ninguno

ESO

Áreas politipo

Ninguno

Área acumulada≤20%

Área acumulada≤30%

Marcado láser frontal

Ninguno

Calidad trasera

Acabado trasero

CMP cara C

Arañazos

≤5ea/mm, longitud acumulada≤2*Diámetro

ESO

Defectos posteriores (descantillados/hendiduras en los bordes)

Ninguno

Rugosidad de la espalda

Ra≤0.2nm (5μm*5μm)

Marcado láser trasero

1 mm (desde el borde superior)

Borde

Borde

Chaflán

Embalaje

Embalaje

La bolsa interior se llena con nitrógeno y la bolsa exterior se aspira.

Casete multioblea, preparado para epi.

*Notas: "NA" significa sin solicitud. Los artículos no mencionados pueden referirse a SEMI-STD.





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