Portador de oblea para MOCVD

El Semicorex Wafer Carrier para el diseño avanzado de MOCVD para aplicaciones MOCVD actúa como una base segura, diseñada por expertos para sostener obleas semiconductoras. Ofrece un diseño optimizado que garantiza un agarre firme de las obleas además de facilitar una distribución óptima de los gases para una estratificación uniforme del material. Mejorado con un recubrimiento de carburo de silicio (SiC) mediante deposición química de vapor (CVD), el Wafer Carrier para MOCVD combina la resiliencia del grafito con los atributos del CVD SiC de soportar altas temperaturas, poseer un coeficiente de expansión térmica insignificante y promover una dispersión equitativa del calor. Este equilibrio es crucial para preservar la integridad de la temperatura de la superficie de las obleas.

Con atributos como inhibición de la corrosión, resistencia química y, en consecuencia, una vida útil operativa prolongada, el Wafer Carrier para MOCVD eleva significativamente tanto el calibre como el rendimiento de las obleas. Su durabilidad presenta un beneficio económico directo, lo que posiciona al Wafer Carrier para MOCVD como una opción de adquisición inteligente para sus operaciones de producción de semiconductores.

Meticulosamente diseñado para los procedimientos epitaxiales de obleas, el Semicorex Wafer Carrier para MOCVD destaca en el transporte seguro de obleas dentro de hornos de alta temperatura. Su estructura duradera garantiza que las obleas permanezcan intactas, lo que reduce la propensión a sufrir daños durante las etapas críticas de crecimiento epitaxial.**