Anillo de enfoque de carburo de silicio sólido

En la fabricación de semiconductores, el anillo de enfoque de carburo de silicio sólido Semicorex desempeña un papel crucial al actuar como escudo y preservar la integridad de la oblea durante el proceso de grabado. Su diseño meticulosamente diseñado garantiza un grabado preciso y uniforme, lo que facilita la producción de elementos semiconductores altamente complejos que exhiben un rendimiento y confiabilidad superiores.

El carburo de silicio es el material elegido para el anillo de enfoque debido a su resistencia superior a la corrosión del plasma cuando se expone al plasma dentro de la cámara de reacción de vacío. El anillo de enfoque de carburo de silicio sólido supera al silicio tradicional en varios aspectos, entre ellos:

(1) Alta densidad que minimiza las tasas de grabado.

(2) Banda prohibida superior y excelentes propiedades de aislamiento.

(3) Conductividad térmica excepcional, bajo coeficiente de expansión térmica y resistencia al choque térmico.

(4) Alta elasticidad junto con una excelente resistencia a impactos mecánicos.

(5) Excelente dureza, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión.

La conductividad y la resistencia al grabado de iones del carburo de silicio son similares a las del silicio, lo que convierte al anillo de enfoque de carburo de silicio sólido en un material ideal para esta aplicación.

El anillo de enfoque de carburo de silicio sólido Semicorex es una solución de última generación en el ámbito de la fabricación de semiconductores. Aprovecha las propiedades únicas del CVD SiC para facilitar procesos de grabado confiables y de alto rendimiento, lo que contribuye significativamente al avance de la tecnología de semiconductores.