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Aleta CVD SiC

Aleta CVD SiC

Semicorex CVD SiC Fin es un componente grueso de carburo de silicio sólido de alta densidad fabricado mediante deposición química de vapor, diseñado para aplicaciones de semiconductores de temperatura ultra alta y revestimiento de plasma que requieren pureza, durabilidad y resistencia a la corrosión excepcionales. Semicorex suministra componentes avanzados de carburo de silicio CVD a fabricantes de equipos semiconductores en todo el mundo, brindando soluciones personalizadas, ingeniería de precisión y entrega global confiable para los entornos de procesos más exigentes.*

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Anillo de enfoque CVD SiC para 2L10-506419-21

Anillo de enfoque CVD SiC para 2L10-506419-21

Fabricado con materiales CVD SiC de alto rendimiento, el anillo de enfoque Semicorex CVD SiC para 2L10-506419-21 es la pieza crucial del anillo diseñada especialmente para los equipos TEL VIGUS RK4 utilizados en los procesos de grabado de semiconductores de precisión. Elegir Semicorex significa que obtendrá las soluciones CVD SiC ideales para lograr resultados de grabado precisos y uniformes.

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Anillos de tierra superiores recubiertos de CVD SiC

Anillos de tierra superiores recubiertos de CVD SiC

Los anillos de tierra superiores recubiertos de SiC CVD de Semicorex son los componentes esenciales en forma de anillo diseñados especialmente para los sofisticados equipos de grabado por plasma. Como proveedor líder de la industria de componentes semiconductores, Semicorex se enfoca en ofrecer anillos de tierra superiores recubiertos de CVD SiC de alta calidad, duraderos y ultra limpios para ayudar a nuestros valiosos clientes a mejorar la eficiencia operativa y la calidad general del producto.

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Anillo de enfoque CVD SiC

Anillo de enfoque CVD SiC

A través de un proceso de deposición química de vapor (CVD), Semicorex CVD SiC Focus Ring se deposita meticulosamente y se procesa mecánicamente para lograr el producto final. Gracias a las propiedades superiores de su material, es indispensable en los entornos exigentes de la fabricación moderna de semiconductores.**

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Cabezal de ducha CVD SiC

Cabezal de ducha CVD SiC

El cabezal de ducha Semicorex CVD SiC es un componente central utilizado en equipos de grabado de semiconductores y sirve como electrodo y conducto para gases de grabado. Elija Semicorex por su control superior de materiales, tecnología de procesamiento avanzada y rendimiento confiable y duradero en aplicaciones de semiconductores exigentes.*

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Cabezal de ducha CVD SiC

Cabezal de ducha CVD SiC

El cabezal de ducha Semicorex CVD SiC es un componente esencial en los procesos CVD modernos para lograr películas delgadas uniformes y de alta calidad con eficiencia y rendimiento mejorados. El control superior del flujo de gas, la contribución a la calidad de la película y la larga vida útil del cabezal de ducha CVD SiC lo hacen indispensable para aplicaciones exigentes de fabricación de semiconductores.**

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