Semicorex ZrO2 Crucible está elaborado a partir de cerámica de circonio estabilizada, presentando una composición estándar de 94,7% de dióxido de circonio (ZrO2) y 5,2% de óxido de itrio (Y2O3) en porcentaje en peso, o alternativamente, 97% de ZrO2 y 3% de Y2O3 en porcentaje molar. Esta formulación precisa dota al crisol ZrO2 de un conjunto de características ventajosas que satisfacen específicamente las demandas de los procesos industriales de alto rendimiento.**
Leer másEnviar ConsultaLa cuchilla de corte Semicorex Al2O3 ha sido diseñada meticulosamente para satisfacer las rigurosas demandas de los procesos de corte en un espectro de industrias, incluidas, entre otras, películas y láminas, aplicaciones médicas y el complejo ensamblaje de componentes electrónicos.**
Leer másEnviar ConsultaEl fieltro rígido recubierto de carbono similar al vidrio, un producto exclusivo de Semicorex, consiste en un sustrato de fieltro rígido de fibra de carbono envuelto por un recubrimiento de carbono similar al vidrio, que combina la resistencia inherente del fieltro con las propiedades superficiales excepcionales del carbono similar al vidrio. . Juntos crean un material que destaca por su rendimiento en condiciones extremas.**
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC Dummy Wafer es una herramienta especializada en la fabricación de semiconductores, diseñada principalmente para fines experimentales y de prueba.**
Leer másEnviar ConsultaEl anillo de sello cerámico de SiC es conocido por su rendimiento robusto y durabilidad. Semicorex ofrece anillos de sello cerámicos de SiC de alta calidad que cumplen con las estrictas demandas de la industria moderna. Estos anillos se han vuelto indispensables para mejorar la eficiencia y confiabilidad de los sellos mecánicos.**
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Solid SiC es un componente crucial en la fabricación de semiconductores, diseñado específicamente para procesos de deposición química de vapor (CVD). Semicorex, líder en tecnología de materiales avanzada, ofrece cabezales de ducha de SiC sólido que garantizan una distribución superior de los gases precursores sobre las superficies del sustrato. Esta precisión es vital para lograr resultados de procesamiento consistentes y de alta calidad.**
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