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¿Qué es el grado de grafitización?

El grado de grafitización es una medida esencial que se utiliza para evaluar qué tan cerca están los átomos de carbono de formar una estructura cristalina de grafito hexagonal muy compacta.

Desmitificando la tecnología de mandril electrostático (ESC) en el manejo de obleas

Los mandriles electrostáticos (ESC) se han vuelto indispensables en la fabricación de semiconductores y la producción de pantallas planas, ya que ofrecen un método altamente controlable y sin daños para sujetar y colocar obleas y sustratos delicados durante los pasos críticos del procesamiento. Este......

Proceso de crecimiento de película delgada.

Las películas delgadas comunes se dividen principalmente en tres categorías: películas delgadas de semiconductores, películas delgadas dieléctricas y películas delgadas de metal/compuestos metálicos.

Heteroepitaxia de 3C-SiC: descripción general

El desarrollo del 3C-SiC, un importante politipo de carburo de silicio, refleja el avance continuo de la ciencia de los materiales semiconductores. En la década de 1980, Nishino et al. logró por primera vez una película de 3C-SiC de 4 μm de espesor sobre un sustrato de silicio mediante deposición qu......

SiC grueso CVD de alta pureza: conocimientos sobre procesos para el crecimiento de materiales

Las capas gruesas de carburo de silicio (SiC) de alta pureza, que normalmente superan 1 mm, son componentes críticos en diversas aplicaciones de alto valor, incluida la fabricación de semiconductores y las tecnologías aeroespaciales. Este artículo profundiza en el proceso de deposición química de va......

Silicio monocristalino versus silicio policristalino

El silicio monocristalino y el silicio policristalino tienen cada uno sus propias ventajas únicas y escenarios aplicables. El silicio monocristalino es adecuado para productos electrónicos y microelectrónicos de alto rendimiento debido a sus excelentes propiedades eléctricas y mecánicas. El silicio ......

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