Un horno de difusión es un equipo especializado que se utiliza para introducir impurezas en obleas semiconductoras de forma controlada. Estas impurezas, llamadas dopantes, cambian las propiedades eléctricas de los semiconductores, permitiendo que se fabriquen diferentes tipos de componentes electrón......
Leer másHay dos tipos de epitaxia: homogénea y heterogénea. Para producir dispositivos de SiC con resistencia específica y otros parámetros para diferentes aplicaciones, el sustrato debe cumplir las condiciones de epitaxia antes de que pueda comenzar la producción. La calidad de la epitaxia afecta el rendim......
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