En la industria de los semiconductores, las capas epitaxiales desempeñan un papel crucial al formar películas delgadas monocristalinas específicas sobre un sustrato de oblea, conocidas colectivamente como obleas epitaxiales. En particular, las capas epitaxiales de carburo de silicio (SiC) cultivadas......
Leer másActualmente, la mayoría de los fabricantes de sustratos de SiC utilizan un nuevo diseño de proceso de campo térmico de crisol con cilindros de grafito poroso: colocan materias primas de partículas de SiC de alta pureza entre la pared del crisol de grafito y el cilindro de grafito poroso, mientras se......
Leer másEl crecimiento epitaxial se refiere al proceso de hacer crecer una capa monocristalina cristalográficamente bien ordenada sobre un sustrato. En términos generales, el crecimiento epitaxial implica el cultivo de una capa cristalina sobre un sustrato monocristalino, donde la capa cultivada comparte la......
Leer másRecientemente, la industria de los semiconductores ha seguido prestando cada vez más atención a la tecnología de nitruro de galio (GaN). Debido a sus excelentes propiedades electrónicas, los dispositivos de Nitruro de Galio tienen importantes aplicaciones en muchos campos de alta tecnología:
Leer másLa deposición química de vapor (CVD) se refiere a una tecnología de proceso en la que múltiples reactivos gaseosos a presiones parciales variadas experimentan una reacción química en condiciones específicas de temperatura y presión. La sustancia sólida resultante se deposita sobre la superficie del ......
Leer másA medida que aumente gradualmente la aceptación global de los vehículos eléctricos, el carburo de silicio (SiC) encontrará nuevas oportunidades de crecimiento en la próxima década. Se prevé que los fabricantes de semiconductores de potencia y los operadores de la industria automotriz participen más ......
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