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Oblea de silicio

El material de silicio es un material sólido con ciertas propiedades eléctricas semiconductoras y estabilidad física, y proporciona soporte de sustrato para el posterior proceso de fabricación de circuitos integrados. Es un material clave para los circuitos integrados basados en silicio. Más del 9......

Barcos de SiC frente a barcos de cuarzo: uso actual y tendencias futuras en la fabricación de semiconductores

Este artículo profundiza en el uso y la trayectoria futura de los barcos de carburo de silicio (SiC) en relación con los barcos de cuarzo dentro de la industria de los semiconductores, centrándose específicamente en sus aplicaciones en la fabricación de células solares.

Corte de SiC

El carburo de silicio (SiC) es muy popular en la industria de los semiconductores por sus excelentes propiedades físicas y químicas. Sin embargo, la alta dureza y fragilidad del SiC plantean desafíos considerables para su procesamiento.

Obleas epitaxiales de nitruro de galio: una introducción al proceso de fabricación

El crecimiento de obleas epitaxiales de nitruro de galio (GaN) es un proceso complejo que a menudo utiliza un método de dos pasos. Este método implica varias etapas críticas, que incluyen horneado a alta temperatura, crecimiento de la capa amortiguadora, recristalización y recocido. Al controlar met......

¿Cuál es la diferencia entre obleas epitaxiales y difusas?

Tanto las obleas epitaxiales como las difusas son materiales esenciales en la fabricación de semiconductores, pero difieren significativamente en sus procesos de fabricación y aplicaciones de destino. Este artículo profundiza en las distinciones clave entre estos tipos de obleas.

Flujo del proceso central de sustrato de carburo de silicio

El sustrato de carburo de silicio es un material monocristalino semiconductor compuesto compuesto por dos elementos, carbono y silicio. Tiene las características de banda prohibida grande, alta conductividad térmica, alta intensidad de campo de ruptura crítica y alta tasa de deriva de saturación de ......

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