Susceptores de MOCVD

Los susceptores Semicorex MOCVD están diseñados específicamente para soportar entornos de alta temperatura y resistir los duros regímenes químicos que a menudo se emplean en los procesos de producción de obleas. Mediante ingeniería de precisión, estos componentes se adaptan para cumplir con los estrictos requisitos de los sistemas de reactores epitaxiales. La composición de nuestros susceptores MOCVD, con carburo de silicio (SiC) recubierto sobre grafito de primera calidad, no solo ofrece robustez en condiciones térmicas y corrosivas extremas, sino que también garantiza una distribución uniforme del calor, vital para mantener una calidad constante en la deposición de películas epitaxiales.

Además, las impresionantes propiedades térmicas de nuestros susceptores MOCVD permiten una gestión rápida y uniforme de la temperatura durante el crecimiento de los semiconductores, optimizando el proceso de producción. Su resistencia a las altas temperaturas, la oxidación y la corrosión garantiza un funcionamiento confiable incluso en los entornos operativos más desafiantes.

Además, los susceptores MOCVD están diseñados haciendo hincapié en la uniformidad, que es fundamental para la síntesis de sustratos monocristalinos. El nivel de planaridad alcanzado es indispensable para lograr un crecimiento monocristalino superior en la superficie de la oblea.

En Semicorex, nuestra pasión por superar los puntos de referencia de la industria sólo puede rivalizar con nuestro compromiso con la rentabilidad para nuestros socios. Nos esforzamos por ofrecer productos como los susceptores MOCVD que no solo satisfagan sino que anticipen las necesidades cambiantes de la fabricación de semiconductores, garantizando que sus operaciones estén equipadas con las mejores herramientas disponibles.