Paleta voladiza de SiC de alta pureza

La paleta voladiza de SiC de alta pureza Semicorex está fabricada porCerámica de carburo de silicio, generalmente el SiSiC. Es un SiC producido mediante un proceso de infiltración de silicio, proceso que dacerámica de carburo de silicioMateriales de mayor resistencia y rendimiento. La paleta voladiza de SiC de alta pureza recibe su nombre por su forma: es de tira larga y con ventilador lateral. La forma está diseñada para soportar barquillos horizontales en hornos de alta temperatura.

Se utiliza principalmente en oxidación, difusión, RTA/RTP en el proceso de fabricación de semiconductores. Entonces, la atmósfera está compuesta de oxígeno (gas reactivo), nitrógeno (gas protector) y una pequeña cantidad de cloruro de hidrógeno. La temperatura es de aproximadamente 1250°C. Por tanto, es un entorno de oxidación a alta temperatura. Se requiere que la pieza en este entorno sea resistente a la oxidación y pueda soportar altas temperaturas.

La paleta voladiza de SiC de alta pureza de Semicorex está fabricada mediante impresión 3D, por lo que es una pieza moldeada de una sola pieza y puede cumplir con los altos requisitos de tamaño y procesamiento. La paleta en voladizo estará formada por 2 partes, el cuerpo y su revestimiento. Semicorex puede proporcionar un contenido de impurezas <300 pm para el cuerpo y <5 ppm para el revestimiento CVD SiC. Por lo tanto, la superficie es de pureza ultra alta para evitar la introducción de impurezas y contaminantes. También es un material con alta resistencia al choque térmico, para mantener su forma durante una larga vida útil.

Semicorex realiza un proceso de fabricación en ruta muy valioso. Con respecto al cuerpo de SiC, primero preparamos la materia prima y mezclamos el polvo de SiC, luego moldeamos y mecanizamos hasta obtener la forma final, luego sinterizaremos la pieza para mejorar la densidad y muchas propiedades químicas. Se forma el cuerpo principal y haremos la inspección de la cerámica misma para cumplir con los requisitos de dimensiones. Después de eso haremos la limpieza importante. Coloque la paleta voladiza calificada en el equipo ultrasónico para limpiarlo y eliminar el polvo y el aceite de la superficie. Después de la limpieza, coloque la paleta voladiza de SiC de alta pureza en un horno de secado y hornee a 80-120°C durante 4-6 horas hasta que el agua se seque.

Luego podemos aplicar un recubrimiento CVD al cuerpo. La temperatura del recubrimiento es de 1200-1500 ℃ y se selecciona una curva de calentamiento adecuada. A alta temperatura, la fuente de silicio y la fuente de carbono reaccionan químicamente para generar partículas de SiC a nanoescala. Las partículas de SiC se depositan continuamente en la superficie del

parte para formar una capa delgada y densa de SiC. El espesor del recubrimiento es generalmente de 100 ± 20 μm. Después de terminar, se organizará la inspección final de los productos, para determinar su apariencia, pureza y dimensiones, etc.