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Campo térmico de grafito

Campo térmico de grafito

Semicorex Graphite Thermal Field combina la ciencia de materiales de vanguardia con un profundo conocimiento de los procesos de crecimiento de los cristales y ofrece una solución innovadora que permite a la industria de semiconductores alcanzar nuevos niveles de rendimiento, eficiencia y rentabilidad.**

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Descripción del Producto

Semicorex aborda los desafíos de las aplicaciones de crecimiento de cristales con su campo térmico de grafito de alta pureza de última generación. El campo térmico de grafito, elaborado a partir de grafito isostático de alta pureza meticulosamente seleccionado, ofrece propiedades importantes que mejoran significativamente el rendimiento, la confiabilidad y la rentabilidad de los procesos de crecimiento de silicio monocristalino:


Uniformidad redefinida:Semicorex Graphite Thermal Field representa una uniformidad excepcional en su estructura de calentamiento, lo que garantiza una distribución homogénea de la temperatura en toda la zona de crecimiento. Esta uniformidad minimiza las tensiones térmicas dentro del cristal en crecimiento, lo que lleva a una reducción de la densidad de defectos, una mejor calidad del cristal y mayores rendimientos de obleas utilizables.


Eficiencia energética:La excepcional conductividad eléctrica del campo térmico de grafito permite una transferencia de calor eficiente y un control preciso de la temperatura dentro del horno de crecimiento. En otras palabras, significa ciclos de calentamiento y enfriamiento más rápidos, menor consumo de energía y, en última instancia, un menor costo por cristal producido.


Resistencia inquebrantable: El campo térmico de grafito está diseñado para resistir las duras condiciones inherentes al crecimiento de silicio monocristalino. Su resistencia inherente a la corrosión garantiza la estabilidad a largo plazo y evita la contaminación del cristal en crecimiento por componentes degradados. Además, la naturaleza no oxidante del campo térmico de grafito elimina la formación de óxidos no deseados, preservando la pureza del entorno de crecimiento y garantizando una calidad constante del cristal.


Pureza en su esencia:Semicorex entiende que lograr los niveles más altos de rendimiento de semiconductores comienza con una pureza del material excepcional. El campo térmico de grafito está elaborado a partir de grafito isostático de pureza ultra alta, procesado meticulosamente para minimizar las impurezas que podrían afectar negativamente el crecimiento del cristal. Este compromiso con la pureza garantiza la producción de cristales de silicio de alta calidad con las características eléctricas deseadas.


Construido para durar:La robusta resistencia mecánica del campo térmico de grafito garantiza su capacidad para resistir los exigentes ciclos térmicos y las tensiones mecánicas inherentes a los procesos de crecimiento de los cristales. Esta durabilidad se traduce en una mayor vida útil de los componentes, menores requisitos de mantenimiento y, en última instancia, un menor costo total de propiedad.



Sistema de campo térmico de horno de tracción monocristalino.



El campo térmico de grafito isostático de alta pureza de Semicorex proporciona una propuesta de valor convincente para los fabricantes de silicio monocristalino:


Eficiencia Energética:El diseño térmico optimizado y la alta conductividad eléctrica contribuyen a reducir el consumo de energía y reducir los costos operativos.


Productos de alto valor:La pureza excepcional del material y los perfiles de calentamiento uniformes permiten el crecimiento de cristales de alta calidad, maximizando el rendimiento y aumentando el valor del producto final.


Bajo mantenimiento:Los materiales robustos y una ingeniería meticulosa minimizan el desgaste, lo que reduce los requisitos de mantenimiento y prolonga la vida útil de los componentes.

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