Placa planetaria recubierta de TaC

La placa planetaria recubierta de TaC Semicorex sirve como componente clave dentro de los reactores MOCVD y exhibe un diseño planetario caracterizado por numerosas bolsas de oblea dispuestas a lo largo de su superficie. Estos bolsillos se crean específicamente para acomodar de manera confiable las obleas durante la fase de crecimiento de cualquier capa epitaxial, estabilizando las obleas de sustrato y minimizando el movimiento del sustrato bajo temperaturas de proceso elevadas. La geometría exacta de las bolsas proporciona una colocación consistente de las obleas, lo cual es importante para lograr un espesor uniforme de las capas epitaxiales y niveles uniformes de defectos del sustrato para todas las obleas cultivadas durante el mismo proceso.

Un aspecto importante del diseño de la placa planetaria, una vez más, es la dispersión diseñada de finos orificios de flujo de gas a lo largo de la superficie de la placa. Estos orificios están cuidadosamente diseñados y ubicados estratégicamente específicamente para medir el flujo de gases precursores en el reactor, de modo que se logre una dispersión uniforme del gas y una deposición uniforme entre cada oblea. En cualquier proceso MOCVD, los aspectos de la dinámica del gas son críticos para determinar las cualidades de la película, la uniformidad del espesor y el rendimiento general del dispositivo. El diseño optimizado del agujero en elRecubierto de TaCLa placa planetaria garantiza que todas las obleas experimenten las mismas condiciones de proceso, lo que proporciona una forma óptima de mejorar el rendimiento y la reproducibilidad.

ElLa placa planetaria recubierta de TaC Semicorex sirve como componente clave dentro de los reactores MOCVD y exhibe un diseño planetario caracterizado por numerosas bolsas de oblea dispuestas a lo largo de su superficie. Estos bolsillos se crean específicamente para acomodar de manera confiable las obleas durante la fase de crecimiento de cualquier capa epitaxial, estabilizando las obleas de sustrato y minimizando el movimiento del sustrato bajo temperaturas de proceso elevadas. La geometría exacta de las bolsas proporciona una colocación consistente de las obleas, lo cual es importante para lograr un espesor uniforme de las capas epitaxiales y niveles uniformes de defectos del sustrato para todas las obleas cultivadas durante el mismo proceso.Un aspecto importante del diseño de la placa planetaria, una vez más, es la dispersión diseñada de finos orificios de flujo de gas a lo largo de la superficie de la placa. Estos orificios están cuidadosamente diseñados y ubicados estratégicamente específicamente para medir el flujo de gases precursores en el reactor, de modo que se logre una dispersión uniforme del gas y una deposición uniforme entre cada oblea. En cualquier proceso MOCVD, los aspectos de la dinámica del gas son críticos para determinar las cualidades de la película, la uniformidad del espesor y el rendimiento general del dispositivo. El diseño optimizado del agujero en el

La longevidad y durabilidad de la placa planetaria recubierta de TaC la convierten en una opción rentable para los sistemas MOCVD. La capa duradera de TaC puede resistir ciclos térmicos repetidos y la exposición a gases de proceso extremos mientras mantiene la integridad estructural y la estabilidad del rendimiento mientras opera durante períodos de tiempo prolongados.