Campana de cuarzo semiconductor

Semicorex Semiconductor Quartz Bell Jar es un recipiente especializado construido con material de cuarzo de alta pureza. Su diseño está diseñado para cumplir con los estrictos requisitos de los procesos de fabricación de semiconductores, donde la pureza y la limpieza son primordiales. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.

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Descripción del Producto

La campana de cuarzo semiconductor Semicorex se fabrica normalmente a partir de cuarzo fundido sintético, un material conocido por su pureza excepcional, resistencia a altas temperaturas y propiedades de baja expansión térmica. Esto asegura que la cámara no introduzca contaminantes o impurezas en el proceso de fabricación de semiconductores.

La campana de cuarzo semiconductora suele tener forma cilíndrica o de cúpula, con una base plana o ligeramente curvada para acomodar obleas o sustratos semiconductores. Cuenta con un mecanismo de sellado hermético diseñado con precisión, como una brida o una junta tórica, para mantener un vacío o una atmósfera controlada dentro de la cámara durante el procesamiento.

La campana de cuarzo semiconductor ofrece una excelente claridad óptica, lo que permite a los operadores monitorear visualmente los procesos dentro de la cámara sin comprometer la precisión ni introducir interferencias. El cuarzo es altamente resistente al ataque químico de la mayoría de los ácidos, bases y solventes comúnmente utilizados en los procesos de fabricación de semiconductores. Esto asegura la integridad de la cámara y evita la contaminación de los sustratos.

El cuarzo tiene un alto punto de fusión y estabilidad térmica, lo que permite que la campana de cuarzo semiconductor resista las temperaturas elevadas encontradas durante los procesos de deposición o recocido sin deformación ni degradación.

Aplicaciones:

Deposición: Las campanas de cuarzo semiconductoras se utilizan en diversas técnicas de deposición, como la deposición química de vapor (CVD), la deposición física de vapor (PVD) y la deposición de capas atómicas (ALD), para depositar películas delgadas de materiales sobre sustratos semiconductores con precisión y uniformidad.

Grabado: se emplean en procesos de grabado con plasma para eliminar selectivamente material de obleas semiconductoras, creando patrones y estructuras intrincados con alta precisión y repetibilidad.

Recocido: Las campanas de vidrio se utilizan en procesos de recocido para someter obleas semiconductoras a un tratamiento térmico controlado, facilitando la cristalización, la activación dopante y el alivio de tensiones en las películas depositadas.