Semicorex proporciona carburo de silicio de anillo de grabado CVD SiC de alta calidad con un servicio personalizado. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
Libere el pináculo de la precisión en la fabricación de semiconductores con nuestro susceptor tipo panqueque CVD SiC de última generación. Este componente en forma de disco, diseñado por expertos para equipos semiconductores, sirve como elemento crucial para soportar finas obleas semiconductoras durante los procesos de deposición epitaxial a alta temperatura. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
En un aparato de plasma para grabado y deposición química de vapor (CVD) de materiales en obleas, los gases de proceso se suministran a una cámara de proceso a través de un cabezal de ducha de grafito recubierto de SiC CVD. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China.
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