El tubo de oxidación semicorex sic es un componente de alto rendimiento utilizado en hornos de tubos SIC para el procesamiento térmico de semiconductores avanzados. Está diseñado para la estabilidad a largo plazo en condiciones extremas. Elija semicorex para nuestra pureza de material superior, control dimensional apretado y calidad de producto consistente, lo que le ayuda a lograr resultados óptimos en cada ejecución de alta temperatura.*
Leer másEnviar ConsultaEl anillo Top Epi de 8 pulgadas semicorex es un componente de grafito recubierto de SIC diseñado para su uso como anillo de cubierta superior en sistemas de crecimiento epitaxial. Elija semicorex para su pureza de material líder en la industria, mecanizado preciso y calidad de recubrimiento consistente que garantice un rendimiento estable y una vida útil de componentes extendidos en procesos de semiconductores de alta temperatura.*
Leer másEnviar ConsultaEl anillo de fondo EPI semicorex de 8 pulgadas es un componente de grafito recubierto de SIC robusto esencial para el procesamiento de obleas epitaxiales. Elija semicorex para pureza de material inigualable, precisión de recubrimiento y rendimiento confiable en cada ciclo de producción.*
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor de EPI de 8 pulgadas de 8 pulgadas es un portador de obleas de grafito SIC recubierto de alto rendimiento diseñado para su uso en equipos de deposición epitaxial. Elegir semicorex garantiza la pureza superior de materiales, la fabricación de precisión y la confiabilidad constante del producto adaptada para cumplir con los estándares exigentes de la industria de semiconductores.*
Leer másEnviar ConsultaLas placas base de montaje de alúmina semicorex son un componente de cerámica de alto rendimiento diseñado para un manejo preciso de obleas en la fabricación de semiconductores. Su fuerza superior, aislamiento y estabilidad térmica lo hacen ideal para exigir entornos de automatización de la sala limpia.*
Leer másEnviar ConsultaEl chuck Semicorex Silicon Carbide Vacuum es una solución de manejo de obleas de alto rendimiento diseñada con carburo de silicio poroso. Está diseñado específicamente para la adsorción de vacío de obleas de semiconductores durante procesos críticos como el montaje (depilación), el adelgazamiento, la eliminación, la limpieza, la cubita y el recocido térmico rápido (RTA). Elija semicorex para pureza de material inigualable, precisión dimensional y rendimiento confiable en entornos de semiconductores exigentes.*
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