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Noticias de la Industria

Infineon presenta la primera oblea Power GaN de 300 mm del mundo

Recientemente, Infineon Technologies anunció el desarrollo exitoso de la primera tecnología de oblea de nitruro de galio (GaN) de 300 mm de potencia del mundo.

Fabricación de silicio monocristalino

Los tres métodos principales utilizados en la fabricación de silicio monocristalino son el método Czochralski (CZ), el método Kyropoulos y el método de zona flotante (FZ).

Oxidación en el procesamiento de semiconductores

Los procesos de oxidación desempeñan un papel fundamental en la prevención de tales problemas al crear una capa protectora en la oblea, conocida como capa de óxido, que actúa como una barrera entre diferentes químicos.

¿Qué es el nitruro de silicio?

El nitruro de silicio (Si3N4) es un material clave en el desarrollo de cerámicas estructurales avanzadas de alta temperatura.

Comprender las diferencias de grabado entre obleas de silicio y carburo de silicio

Proceso de grabado: silicio frente a carburo de silicio

¿Qué es el mandril electrostático (ESC)?

En la fabricación de semiconductores, la precisión y estabilidad del proceso de grabado son primordiales. Un factor crítico para lograr un grabado de alta calidad es garantizar que las obleas queden perfectamente planas sobre la bandeja durante el proceso.

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