El tanque de limpieza Semicorex, un componente fundamental en el proceso de fabricación de semiconductores, está diseñado con precisión y experiencia para satisfacer las rigurosas demandas de la industria. Semicorex se compromete a ofrecer productos de calidad a precios competitivos y esperamos convertirnos en su socio a largo plazo en China*.
El tanque de limpieza Semicorex está fabricado con cuarzo de alta calidad, ofrece un rendimiento y confiabilidad incomparables, lo que garantiza que las obleas semiconductoras se limpien a fondo y estén libres de cualquier contaminante que pueda comprometer su integridad.
Se elige cuarzo para la construcción del tanque de limpieza debido a su excepcional resistencia química y estabilidad térmica. El tanque de limpieza de cuarzo resiste los químicos agresivos que se usan comúnmente en los procesos de limpieza, como el ácido fluorhídrico y otros agentes decapantes fuertes. Su estabilidad térmica garantiza que pueda soportar las altas temperaturas que a menudo se requieren en el procesamiento de semiconductores sin deformarse ni degradarse, manteniendo su integridad estructural y su rendimiento durante largos períodos.
El diseño del tanque de limpieza está meticulosamente diseñado para optimizar el proceso de limpieza. Su interior liso y sin costuras minimiza la generación de partículas y evita la acumulación de contaminantes. El tanque de limpieza está diseñado para adaptarse a varios métodos de limpieza, incluidos baños químicos, limpieza ultrasónica y limpieza megasónica. Cada método tiene sus ventajas específicas y la versatilidad del tanque de limpieza permite utilizarlo en múltiples etapas del proceso de limpieza, desde la limpieza inicial de la oblea hasta el enjuague y secado final.
En los baños químicos, el tanque de limpieza garantiza que las obleas estén expuestas uniformemente a las soluciones de limpieza, lo que promueve una limpieza constante y exhaustiva. La exposición uniforme es fundamental para eliminar partículas, residuos orgánicos y contaminantes metálicos de la superficie de la oblea. En la limpieza ultrasónica y megasónica, las ondas sonoras de alta frecuencia crean burbujas de cavitación microscópicas en la solución de limpieza. Cuando estas burbujas colapsan, generan poderosas ondas de choque que desalojan y eliminan los contaminantes de la superficie de la oblea. La robusta construcción de cuarzo del tanque de limpieza puede soportar las intensas condiciones generadas por estos métodos de limpieza, lo que garantiza durabilidad y eficacia a largo plazo.