Grafito ultrafino con alta porosidad

Adhesión superior de partículas superficiales y excelentes características antipolvo: el grafito ultrafino Semicorex con alta porosidad exhibe una adhesión excepcional de partículas superficiales, lo que garantiza una generación mínima de polvo y mantiene un entorno de trabajo limpio, lo cual es crucial para aplicaciones sensibles como la fabricación de semiconductores.

Tolerancia a altas temperaturas: el grafito ultrafino con alta porosidad puede soportar temperaturas extremas de hasta 2500 °C, lo que lo hace adecuado para procesos y entornos de alta temperatura donde los materiales convencionales fallarían.

Alta porosidad de hasta 65 %: la alta porosidad del grafito poroso permite un flujo eficiente de gas y fluido, lo que permite una mejor transferencia de masa y disipación de calor en diversas aplicaciones.

Grafito poroso ultrafino con excelente maquinabilidad: el grafito ultrafino con alta porosidad se puede fabricar en láminas ultrafinas de hasta 1,5 mm manteniendo una alta porosidad, lo que proporciona flexibilidad en el diseño y la aplicación.

Maquinabilidad para formas cilíndricas de paredes ultrafinas: el grafito ultrafino con alta porosidad se puede mecanizar en formas cilíndricas de paredes ultrafinas con espesores de pared de ≤1 mm, lo que ofrece versatilidad en el diseño y la funcionalidad de los componentes.

Excelentes propiedades aislantes y consistencia de lotes: el grafito ultrafino con alta porosidad demuestra características aislantes sobresalientes y un rendimiento constante entre lotes, lo que garantiza resultados confiables y reproducibles en aplicaciones críticas.

Material de grafito poroso ultrapuro: el grafito ultrafino con alta porosidad está disponible en formas ultrapuras, logrando altos niveles de pureza que son esenciales para aplicaciones exigentes como la fabricación de semiconductores.

Alta resistencia: a pesar de su naturaleza porosa, el grafito ultrafino de alta porosidad exhibe una resistencia impresionante, lo que lo hace adecuado para componentes estructurales y aplicaciones de carga.

Aplicaciones en la fabricación de semiconductores:

El grafito ultrafino con alta porosidad se utiliza principalmente en la industria de los semiconductores, particularmente en el novedoso proceso de transferencia de masa. Este proceso emplea un nuevo campo térmico para la transferencia de masa de un solo paso, lo que mejora significativamente la eficiencia de la transferencia y mantiene una velocidad constante, reduciendo así el impacto de la recristalización (evitando la transferencia de masa de doble paso) y minimizando efectivamente las microtuberías u otros defectos cristalinos relacionados. Además, el grafito poroso ayuda a equilibrar los componentes de la fase gaseosa, aislar trazas de impurezas, ajustar las temperaturas locales y reducir la encapsulación física de partículas. Al satisfacer los requisitos de usabilidad del cristal, el grafito poroso permite un aumento sustancial en el espesor del cristal, lo que lo convierte en una tecnología clave para abordar el desafío de hacer crecer cristales más gruesos.