Filamento calefactor de SiC

El filamento calefactor de SiC Semicorex, un elemento calefactor de alto vacío desarrollado para el procesamiento de obleas en la fabricación de nuevos semiconductores, es un elemento calefactor innovador diseñado con unnúcleo de grafitoy de alta purezarecubrimiento de carburo de silicio. El filamento especial emplea la conductividad térmica del grafito y la durabilidad y protección del SiC, lo que da como resultado un calentador estable y energéticamente eficiente a lo largo del tiempo. El filamento calefactor de SiC está diseñado para calentar obleas de manera uniforme y alcanzar las especificaciones, lo que lo convierte en un excelente componente para el procesamiento de semiconductores a alta temperatura, como epitaxia, difusión y recocido.

El filamento calefactor de SiC está fabricado con grafito de alta pureza debido a las propiedades térmicas y eléctricas de calidad del grafito. El grafito proporciona la función de calentamiento principal, lo que permite una respuesta rápida y un calentamiento eficiente bajo carga eléctrica. El denso revestimiento de SiC de alta pureza protege el filamento de posibles fuentes de contaminación. El recubrimiento de SiC protege la oblea de la contaminación química y la oxidación, así como de las partículas en la cámara, extiende la vida útil del filamento y crea un ambiente limpio en la cámara.

Una cualidad clave del filamento calefactor de SiC es la capacidad de proporcionar un calentamiento uniforme de la oblea. Las variaciones de temperatura en la oblea pueden provocar defectos o pérdida de rendimiento. El filamento calefactor de SiC tiene una excelente conductividad térmica y el diseño sólido del filamento garantiza que el calor sea estable y más uniforme, lo que limita los gradientes térmicos para un control absoluto del proceso.

El filamento calefactor de SiC es personalizable, el valor de resistencia eléctrica de cada filamento se puede personalizar para su herramienta de proceso y entorno operativo. Esta personalización permite que la tecnología del carburo de silicio controle el valor de resistencia de la geometría del filamento, el espesor del recubrimiento y las propiedades del material. Un filamento calefactor de SiC puede adaptarse a muchos diseños de hornos diferentes con muchos tamaños de oblea y recetas de proceso diferentes. Esto es especialmente favorable para los fabricantes de semiconductores, ya que permite que los procesos actuales se ejecuten de manera más eficiente y mantiene la compatibilidad con los sistemas que ya existen.  La tercera característica del rendimiento es la durabilidad. En los procesos de semiconductores de alta temperatura, el elemento calefactor está expuesto a entornos químicos muy agresivos y ciclos térmicos repetidos.

Las aplicaciones del filamento calefactor de SiC Semicorex cubren una amplia gama de procesos de fabricación de dispositivos semiconductores. Durante el crecimiento epitaxial, por ejemplo, el elemento calefactor proporciona una temperatura de sustrato estable y uniforme para depositar películas cristalinas de alta calidad.