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Productos
Semicorex es un fabricante y proveedor profesional en China. Nuestra fábrica ofrece susceptor de barril, susceptor de mocvd, barco de oblea, etc. Diseño extremo, materias primas de calidad, alto rendimiento y precio competitivo es lo que todo cliente desea, y eso es también lo que podemos ofrecerle. Tomamos alta calidad, precio razonable y servicio perfecto.
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Deposición epitaxial de CVD en reactor de barril
Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor es un producto altamente duradero y confiable para el crecimiento de capas epixiales en chips de obleas. Su resistencia a la oxidación a altas temperaturas y su alta pureza lo hacen adecuado para su uso en la industria de semiconductores. Su perfil térmico uniforme, su patrón de flujo de gas laminar y su prevención de la contaminación lo convierten en una opción ideal para el crecimiento de la capa epixial de alta calidad.
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Deposición epitaxial de silicio en reactor de barril
Si necesita un susceptor de grafito de alto rendimiento para su uso en aplicaciones de fabricación de semiconductores, el reactor de barril de deposición epitaxial de silicio Semicorex es la opción ideal. Su revestimiento de SiC de alta pureza y su excepcional conductividad térmica brindan propiedades superiores de protección y distribución de calor, lo que lo convierte en la opción ideal para un rendimiento confiable y consistente incluso en los entornos más desafiantes.
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Sistema Epi de barril calentado inductivamente
Si necesita un susceptor de grafito con propiedades excepcionales de conductividad térmica y distribución de calor, no busque más que el sistema Epi de barril calentado por inducción Semicorex. Su revestimiento de SiC de alta pureza proporciona una protección superior en entornos corrosivos y de alta temperatura, lo que lo convierte en la opción ideal para su uso en aplicaciones de fabricación de semiconductores.
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Estructura de barril para reactor epitaxial semiconductor
Con sus excepcionales propiedades de conductividad térmica y distribución de calor, la estructura de barril Semicorex para reactor epitaxial de semiconductores es la elección perfecta para su uso en procesos LPE y otras aplicaciones de fabricación de semiconductores. Su revestimiento de SiC de alta pureza proporciona una protección superior en entornos corrosivos y de alta temperatura.
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Susceptor de barril de grafito recubierto de SiC
Si está buscando un susceptor de grafito de alto rendimiento para usar en aplicaciones de fabricación de semiconductores, el susceptor de barril de grafito recubierto de SiC Semicorex es la opción ideal. Su excepcional conductividad térmica y propiedades de distribución de calor lo convierten en la opción ideal para un rendimiento confiable y consistente en ambientes corrosivos y de alta temperatura.
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Susceptor de crecimiento de cristales recubierto de SiC
Con su alto punto de fusión, resistencia a la oxidación y a la corrosión, el susceptor de crecimiento de cristales recubierto de SiC Semicorex es la opción ideal para su uso en aplicaciones de crecimiento de cristales individuales. Su recubrimiento de carburo de silicio proporciona excelentes propiedades de planitud y distribución de calor, lo que lo convierte en una opción ideal para entornos de alta temperatura.
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