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Productos
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Portador de oblea
El portador de obleas de grafito recubierto de SiC de Semicorex está diseñado para proporcionar un manejo confiable de obleas durante los procesos de crecimiento epitaxial de semiconductores, ofreciendo resistencia a altas temperaturas y excelente conductividad térmica. Con tecnología de materiales avanzada y un enfoque en la precisión, Semicorex ofrece rendimiento y durabilidad superiores, lo que garantiza resultados óptimos para las aplicaciones de semiconductores más exigentes.*
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Portaobleas de grafito
El soporte para obleas de grafito recubierto de SiC de Semicorex es un componente de alto rendimiento diseñado para el manejo preciso de obleas en procesos de crecimiento de epitaxia de semiconductores. La experiencia de Semicorex en fabricación y materiales avanzados garantiza que nuestros productos ofrezcan confiabilidad, durabilidad y personalización inigualables para una producción óptima de semiconductores.*
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Crisol cerámico AlN
Diseñado para soportar condiciones extremas, el crisol cerámico AlN presentado por Semicorex es una herramienta indispensable para los profesionales que trabajan con metales no ferrosos y materiales semiconductores como el arseniuro de galio.
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Barco de alúmina
Alumina Boat de Semicorex encuentra su nicho en la industria de semiconductores, maquinaria en general y procesos de alta temperatura, resultando indispensable para los profesionales que buscan confiabilidad y precisión.
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Placa de cerámica de SiC
La placa cerámica Semicorex SiC ofrece un rendimiento inigualable en entornos que requieren resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión y estabilidad a altas temperaturas. Este producto está diseñado para usarse como placas de revestimiento y piezas de soporte en una variedad de aplicaciones exigentes.
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Bandeja de carburo de silicio
La bandeja de carburo de silicio Semicorex está diseñada para soportar condiciones extremas y al mismo tiempo garantizar un rendimiento notable. Desempeña un papel crucial en el proceso de grabado ICP, la difusión de semiconductores y el proceso epitaxial MOCVD.
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