El mandril de oblea de carburo de silicio Semicorex es un componente esencial en el proceso epitaxial de semiconductores. Sirve como mandril de vacío para sujetar de forma segura las obleas durante las etapas críticas de fabricación. Estamos comprometidos a ofrecer productos de alta calidad a precios competitivos, posicionándonos para ser su socio a largo plazo en China.*
Leer másEnviar ConsultaEl mandril de cerámica Semicorex SiC es un componente altamente especializado diseñado para su uso en procesos epitaxiales de semiconductores, donde su función como mandril de vacío es crucial. Con nuestro compromiso de ofrecer productos de alta calidad a precios competitivos, estamos preparados para ser su socio a largo plazo en China.*
Leer másEnviar ConsultaSemicorex se compromete a fabricar y suministrar crisol para silicio monocristalino que presenta una pureza excepcional, propiedades térmicas superiores, resistencia mecánica y compatibilidad con métodos de crecimiento establecidos, lo que lo hace indispensable para satisfacer las estrictas demandas de las industrias electrónica y solar.**
Leer másEnviar ConsultaEl cabezal de ducha Semicorex CVD SiC es un componente esencial en los procesos CVD modernos para lograr películas delgadas uniformes y de alta calidad con eficiencia y rendimiento mejorados. El control superior del flujo de gas, la contribución a la calidad de la película y la larga vida útil del cabezal de ducha CVD SiC lo hacen indispensable para aplicaciones exigentes de fabricación de semiconductores.**
Leer másEnviar ConsultaSemicorex SiC ALD Susceptor ofrece numerosas ventajas en los procesos ALD, incluida la estabilidad a altas temperaturas, una mayor uniformidad y calidad de la película, una mayor eficiencia del proceso y una mayor vida útil del susceptor. Estos beneficios hacen del Susceptor SiC ALD una herramienta valiosa para lograr películas delgadas de alto rendimiento en diversas aplicaciones exigentes.**
Leer másEnviar ConsultaEl susceptor planetario Semicorex ALD es importante en los equipos ALD debido a su capacidad para soportar duras condiciones de procesamiento, lo que garantiza la deposición de películas de alta calidad para una variedad de aplicaciones. A medida que continúa creciendo la demanda de dispositivos semiconductores avanzados con dimensiones más pequeñas y rendimiento mejorado, se espera que el uso del susceptor planetario ALD en ALD se expanda aún más.**
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