La embarcación de grafito solar Semicorex PECVD es el componente esencial del electrodo y portador de grafito utilizado en los procesos de deposición química de vapor mejorada por plasma (PECVD). Se utilizan ampliamente para soportar obleas de silicio o células solares para lograr la deposición de películas (como películas antirreflectantes de nitruro de silicio) en las desafiantes condiciones operativas del plasma a alta temperatura.
semicorexBarcos solares de grafito PECVDestán fabricados con precisión a partir de alta purezagrafito isostático. Cada embarcación de grafito solar PECVD de Semicorex se somete a un mecanizado preciso, una inspección dimensional y pruebas de rendimiento eléctrico para garantizar un rendimiento estable en entornos de plasma de alta temperatura.
Durante el procesamiento de PECVD, el barco de grafito solar de PECVD transporta obleas de silicio a la cámara de reacción de PECVD y sirve como electrodo conectado a la fuente de alimentación de RF. Cuando se aplica un voltaje alterno entre placas de embarcaciones adyacentes, se establece un campo eléctrico. Bajo la influencia del campo eléctrico, los gases reactivos (como el silano SiH₄ y el amoníaco NH₃) sufren una descarga luminiscente y generan plasma. Los iones y radicales libres del plasma descomponen los gases precursores, formando iones de silicio (Si) y nitrógeno (N). Estos iones se combinan para formar moléculas de nitruro de silicio (Si₃N₄), que luego se depositan en la superficie de la oblea de silicio para formar películas delgadas.
1. Estabilidad térmica excepcional
Con un coeficiente de expansión térmica cercano al de las obleas de silicio, SemicorxBarco solar grafito PECVDexperimenta un cambio dimensional insignificante al calentarse, lo que evita de manera confiable el daño a las obleas inducido por el estrés térmico.
2. Conductividad eléctrica y térmica superior
Las embarcaciones de grafito solar Semicorex PECVD tienen una excelente conductividad eléctrica, lo que garantiza una conducción rápida de la corriente de RF y una distribución uniforme del campo eléctrico, lo que resulta beneficioso para la generación de plasma estable y la deposición uniforme de obleas de silicio. Además, su conductividad térmica superior facilita un enfriamiento y calentamiento rápidos, lo que mejora la eficiencia de la producción y evita que el sobrecalentamiento localizado afecte la calidad de la deposición.
3. Fuerte estabilidad química
Gracias al uso de material de primera calidad, la embarcación de grafito solar Semicorex PECVD es menos propensa a reaccionar con los gases reactivos y el plasma. Esta característica previene significativamente la distribución desigual del campo eléctrico causada por la corrosión, deformación o deposición de impurezas en el recipiente de grafito, garantizando así la estabilidad del proceso de deposición y la calidad de la superficie de las obleas de silicio.
4. Excelente resistencia mecánica
Con su excepcional resistencia mecánica, la embarcación de grafito solar Semicorex PECVD puede soportar fácilmente el peso de cargas de obleas de gran volumen. Pueden soportar la tensión mecánica generada durante la carga y el transporte durante mucho tiempo sin deformarse ni romperse fácilmente.
5. Excelente consistencia dimensional
La embarcación de grafito solar Semicorex PECVD logra una precisión dimensional excepcional en todos los componentes mediante un mecanizado de precisión. Mantiene la oblea de silicio en una posición fija durante la deposición, lo que garantiza una deposición uniforme y compatibilidad con la producción automatizada.