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Mandril electrostático PBN

Mandril electrostático PBN

El mandril electrostático PBN de Semicorex destaca en el campo de la manipulación de obleas en la fabricación de semiconductores debido a las propiedades únicas de su material.

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Descripción del Producto

Propiedades materiales dePBNMandril electrostático


Resistencia a altas temperaturas y rigidez dieléctrica

ElPBNEl mandril electrostático es conocido por su excepcional resistencia a las altas temperaturas, una característica fundamental en el proceso de fabricación de semiconductores. El nitruro de boro pirolítico (PBN), el material utilizado en la construcción del mandril, exhibe una resistividad mayor que la cerámica más comúnmente utilizada, lo cual es crucial para mantener la fuerza del mandril Johnsen-Rahbek (J-R) hasta temperaturas de 1050 °C. Esta alta resistividad, junto con su alta rigidez dieléctrica, garantiza que se eviten eficazmente las fallas eléctricas incluso bajo calor intenso, mejorando así la confiabilidad operativa del mandril.


Uniformidad térmica y resistencia a los golpes.

La estructura reticular hexagonal del PBN, preparada mediante deposición química de vapor a temperaturas superiores a 1500°C, contribuye a su excepcional uniformidad térmica y resistencia a los golpes. Los elementos calefactores de alta densidad dentro delPBNEl portabrocas electrostático le permite lograr un perfil térmico de oblea consistente con una buena uniformidad de 1,1 a 1,5 % a temperaturas de 600 a 800 °C. Además, el mandril basado en PBN demuestra una notable resistencia al choque térmico y una menor masa térmica, lo que le permite alcanzar los 600 °C a una rápida velocidad de rampa de 23 °C/seg sin riesgo de agrietamiento o delaminación.


Calefacción multizona personalizable

El mandril electrostático PBN es altamente personalizable y presenta capacidades de calentamiento multizona que permiten un control máximo de la temperatura. Este nivel de personalización garantiza que cada portabrocas pueda adaptarse para cumplir con los requisitos específicos de cada cliente, proporcionando una solución flexible para diversas aplicaciones de procesamiento de semiconductores.


Aplicaciones dePBNMandril electrostático


Implantación de iones y manipulación de obleas

El mandril electrostático PBN es el aparato de manipulación de obleas preferido en los procesos de implantación de iones. Su capacidad para sostener obleas a temperaturas superiores a 1000°C lo convierte en uno de los mandriles electrostáticos más versátiles del mercado. Esta versatilidad se ve reforzada aún más por su capacidad de mantener las obleas dentro de rangos de temperatura muy ajustados, gracias a los elementos calefactores multizona de alta densidad.


Implantación de iones de carburo de silicio

En la aplicación específica de la implantación de iones SiC, elPBNEl mandril electrostático ofrece una solución viable a los desafíos del calentamiento y manipulación de obleas. Sus capacidades de doble función, que incluyen alta fuerza de sujeción, alta potencia de calentamiento, buena uniformidad térmica y respuesta rápida, lo convierten en una opción ideal para abordar los complejos requisitos de la implantación de iones de SiC.


Fabricación de semiconductores

El mandril electrostático PBN desempeña un papel fundamental en la fabricación de semiconductores, donde la manipulación precisa de las obleas y el control de la temperatura son esenciales. Su alta resistencia al choque térmico y su rápida capacidad de aumento de temperatura lo hacen adecuado para procesos de semiconductores avanzados que exigen una gestión rigurosa de la temperatura y ciclos térmicos rápidos.



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