Conociendo el Cantilever Paddle

Durante el procesamiento, las obleas de semiconductores generalmente deben calentarse en un horno especializado. Dichos hornos normalmente consisten en tubos cilíndricos largos y delgados. Las obleas se colocan en el horno y el reactor de tal manera que se disponen a lo largo de un plano definido por la sección transversal circular del horno o reactor y se separan en puntos predeterminados, generalmente igualmente espaciados, a lo largo del eje central del horno o reactor. Para lograr este posicionamiento, las obleas normalmente se colocan en soportes ranurados, llamados botes de obleas, que colocan las obleas en una configuración espaciada alineada a lo largo del eje central.

Los botes pequeños que contienen lotes de obleas para procesar se colocan en largas paletas en voladizo a través de las cuales se pueden insertar y retirar hornos tubulares y reactores. Dichos remos normalmente incluyen una sección de soporte plana en la que se pueden colocar uno o más botes pequeños, y un mango largo, ubicado en un extremo de la sección de soporte plana, mediante el cual se pueden manejar los remos. Normalmente se forma una parte de transición entre el mango y la parte portadora para formar un todo. Además, el mango debe extenderse fuera del horno o reactor para poder manipularlo y el bote de obleas.

El posicionamiento del barco de obleas dentro del horno o reactor es importante porque es deseable colocar el centro de cada oblea lo más cerca posible del eje central del horno o reactor para lograr condiciones de procesamiento uniformes a las que se someten las obleas. Por lo tanto, la flexión de la paleta causada por el peso del barco que transporta las obleas debe tenerse en cuenta en el diseño de la paleta, especialmente porque la paleta se apoya en un solo extremo, es decir, el extremo que sobresale de la cámara del horno. Además de considerar el diseño de la paleta resultante de los requisitos de peso operativo, también se debe usar un conjunto de abrazaderas diseñadas para sujetar con precisión el extremo extendido de la paleta en su posición. Estas abrazaderas deben ser bastante robustas para mantener la paleta en una posición deseada precisa mientras que son fáciles de usar y minimizan la posibilidad de dañar la paleta durante la sujeción.

Por lo tanto, se necesitaba una paleta en voladizo que pudiera usarse con una carga más pesada sin dejar de ser compatible con los sistemas de sujeción existentes. También existía la necesidad de una paleta en voladizo que exhibiera características de deflexión aceptables en todo el rango de cargas de peso con las que podría usarse.

La CSe recomienda que la paleta antipalanca use carburo de silicio recristalizado con una capa delgada de CVD SiC, que es de alta pureza y la mejor opción para los componentes en el procesamiento de semiconductores.

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