La primera empresa de industrialización de sustrato de óxido de galio de 6 pulgadas

Recientemente, nuestra empresa anunció que ha desarrollado con éxito un monitor de 6 pulgadasÓxido de galio (Ga2O3)monocristal utilizando el método de fundición, convirtiéndose en la primera empresa industrializada nacional en dominar la tecnología de preparación de sustrato monocristalino de óxido de galio de 6 pulgadas.

La empresa utilizó un método de fundición de innovación propia para preparar con éxito un monocristal de óxido de galio conductor y dopado involuntariamente de alta calidad de 6 pulgadas, y procesó unSustrato de óxido de galio de 6 pulgadas.

En comparación con los materiales semiconductores tradicionales de carburo de silicio, el material semiconductor de cuarta generaciónÓxido de galiotiene una tensión soportada más alta, un costo menor y una mayor eficiencia de ahorro de energía. Con su excelente rendimiento y fabricación de bajo costo,Óxido de galioSe utiliza principalmente para preparar dispositivos de energía, dispositivos de radiofrecuencia y dispositivos de detección. Es ampliamente utilizado en el campo del tránsito ferroviario, redes inteligentes, vehículos de nueva energía, generación de energía fotovoltaica, comunicaciones móviles 5G, defensa nacional e industrias militares, etc.

En los próximos 10 años aproximadamente,Óxido de galioEs probable que los dispositivos se conviertan en dispositivos electrónicos de potencia competitivos y compitan directamente con los dispositivos de carburo de silicio. Además, la industria cree en general que en el futuro,Óxido de galiose espera que reemplaceCarburo de silicioy nitruro de galio para convertirse en el representante de una nueva generación de materiales semiconductores.