El pedestal de cuarzo fundido está diseñado específicamente para su uso en deposición de capas atómicas (ALD), deposición química de vapor a baja presión (LPCVD) y procesos de difusión, lo que garantiza la deposición uniforme de películas delgadas en las superficies de las obleas.**
En la fabricación de semiconductores, el pedestal de cuarzo fundido sirve como estructura de soporte para el barco de cuarzo, que sostiene las obleas. Al mantener una temperatura constante, ayuda a lograr una deposición uniforme de películas delgadas, un factor crítico para el rendimiento y la confiabilidad de los dispositivos semiconductores. El pedestal garantiza que la distribución térmica y de luz dentro de la cámara de proceso sea uniforme, mejorando así la calidad general del proceso de deposición.
Ventajas del material de cuarzo fundido
1.Resistencia a altas temperaturas
El pedestal de cuarzo fundido tiene un punto de reblandecimiento de aproximadamente 1730 °C, lo que le permite soportar un uso prolongado a temperaturas que oscilan entre 1100 °C y 1250 °C. Además, puede soportar una exposición breve a temperaturas de hasta 1450°C.
2.Resistencia a la corrosión
El pedestal de cuarzo fundido es químicamente inerte a la mayoría de los ácidos, con excepción del ácido fluorhídrico. Su resistencia a los ácidos supera la de la cerámica en 30 veces y la del acero inoxidable en 150 veces. A temperaturas elevadas, ningún otro material puede igualar la estabilidad química del cuarzo fundido, lo que lo convierte en una opción ideal para entornos químicos hostiles.
3. Estabilidad térmica
Una de las características más destacadas del pedestal de cuarzo fundido es su mínimo coeficiente de expansión térmica. Esta propiedad le permite soportar cambios severos de temperatura sin agrietarse. Por ejemplo, se puede calentar rápidamente a 1100 °C y luego sumergirlo en agua a temperatura ambiente sin sufrir daños, una característica esencial para los procesos de fabricación de alto estrés.
Proceso de fabricación
El proceso de fabricación del pedestal de cuarzo fundido se controla meticulosamente para garantizar los más altos estándares de calidad. Los pedestales se producen mediante procesos de termoformado y soldadura realizados en entornos de sala limpia de clase 10.000 o superior. Limpieza posterior con agua ultrapura (18 MΩ)asegura aún más la pureza y el rendimiento del producto. Cada pedestal de cuarzo fundido se somete a rigurosas inspecciones, limpieza y embalaje en una sala limpia de clase 1000 o superior para cumplir con los estrictos requisitos de la fabricación de semiconductores.
Material de cuarzo opaco de alta pureza
Para bloquear eficazmente el calor y la luz, el pedestal de cuarzo fundido utiliza material de cuarzo opaco de alta pureza. Las propiedades únicas de este material mejoran la capacidad del pedestal para mantener una temperatura estable y uniforme dentro de la cámara de proceso, garantizando así la calidad constante de la deposición de películas delgadas en las obleas.
Amplia gama de aplicaciones
Las propiedades excepcionales del pedestal de cuarzo fundido lo hacen adecuado para una variedad de aplicaciones dentro de la industria de los semiconductores. En los procesos ALD, apoya el control preciso del crecimiento de películas delgadas a nivel atómico, esencial para la producción de dispositivos semiconductores avanzados. Durante los procesos LPCVD, la estabilidad térmica del pedestal y las capacidades de bloqueo de luz contribuyen a la deposición uniforme de la película, lo que mejora el rendimiento y el rendimiento del dispositivo.
En los procesos de difusión, la resistencia a altas temperaturas y la inercia química del pedestal de cuarzo fundido garantizan un dopado confiable y consistente de materiales semiconductores. Estos procesos son fundamentales para definir las propiedades eléctricas de los dispositivos semiconductores y el uso de materiales de alta calidad como el cuarzo fundido es esencial para lograr resultados óptimos.