Portabrocas CES

Semicorex ESC Chuck utiliza fuerzas electrostáticas para mantener un control preciso sobre la posición de la oblea, lo que garantiza una alta precisión y repetibilidad en entornos de fabricación de semiconductores. El diseño del mandril ESC, junto con su sólida selección de materiales y dimensiones personalizables, lo convierte en una herramienta versátil y esencial en procesos como grabado, deposición e implantación de iones.

El mandril ESC funciona aplicando un campo electrostático de alto voltaje entre los electrodos del mandril y la oblea, creando una fuerza de atracción que mantiene la oblea en su lugar. La oblea, normalmente hecha de silicio o carburo de silicio, queda asegurada por esta fuerza, lo que permite operaciones precisas en entornos de alto vacío. Este sistema elimina la necesidad de sujeción mecánica o sujeción al vacío, que pueden introducir contaminantes o distorsionar la oblea. Al utilizar un mandril ESC, los fabricantes pueden lograr un entorno más limpio y estable para procesos de fabricación delicados, lo que genera mayores rendimientos y resultados más consistentes.

Una de las ventajas clave de la tecnología ESC es su capacidad para mantener un agarre firme sobre la oblea mientras distribuye la fuerza uniformemente por su superficie. Esto garantiza que la oblea permanezca plana y estable, lo cual es crucial para lograr un grabado o deposición uniforme, especialmente en procesos donde se requiere precisión submicrónica. Las dimensiones personalizables del mandril ESC le permiten acomodar obleas de diferentes tamaños, desde obleas estándar de 200 mm y 300 mm hasta tamaños especializados no estándar utilizados en investigación y desarrollo o en la producción de dispositivos semiconductores especializados.

Los materiales utilizados en la construcción del mandril ESC se seleccionan cuidadosamente para garantizar la compatibilidad con los entornos hostiles que normalmente se encuentran en el procesamiento de semiconductores. La alúmina cerámica de alta pureza se utiliza debido a sus excelentes propiedades de aislamiento eléctrico, estabilidad térmica y resistencia a la corrosión por plasma. Estas propiedades permiten que el mandril funcione eficazmente tanto en condiciones de alta temperatura como de alto vacío, proporcionando la durabilidad y confiabilidad necesarias para el uso a largo plazo en un entorno de sala limpia.

La personalización es otro beneficio importante de los mandriles ESC. Dependiendo de los requisitos específicos de un proceso de fabricación de semiconductores, las dimensiones del mandril, las configuraciones de los electrodos y las composiciones de los materiales se pueden adaptar para satisfacer las necesidades únicas del equipo y las obleas que se procesan. Ya sea que la aplicación implique grabado con plasma, deposición química de vapor (CVD) o deposición física de vapor (PVD), el mandril ESC puede diseñarse para optimizar el rendimiento y mantener la integridad de la oblea durante el procesamiento.