Cubierta de revestimiento CVD TaC

La cubierta de revestimiento Semicorex CVD TaC cuenta con una dureza impresionante, que normalmente alcanza 2500-3000 HV en la escala Vickers. Esta dureza excepcional se debe a los enlaces covalentes increíblemente fuertes entre el tantalio y los átomos de carbono, que forman una barrera densa e impenetrable contra el desgaste abrasivo y la deformación mecánica. En términos prácticos, esto se traduce en herramientas y componentes que permanecen afilados por más tiempo, mantienen la precisión dimensional de la cubierta de recubrimiento CVD TaC y ofrecen un rendimiento constante durante toda su vida útil.

El grafito, con su combinación única de propiedades, tiene un inmenso potencial para una amplia gama de aplicaciones. Sin embargo, su debilidad inherente a menudo limita su uso. Los recubrimientos CVD TaC cambian las reglas del juego, formando una unión increíblemente fuerte con los sustratos de grafito, creando un material sinérgico que combina lo mejor de ambos mundos: la alta conductividad térmica y eléctrica del grafito con la excepcional dureza, resistencia al desgaste e inercia química del CVD. Cubierta con revestimiento TaC.

Las rápidas fluctuaciones de temperatura dentro de los reactores de epitaxia pueden causar estragos en los materiales, provocando grietas, deformaciones y fallas catastróficas. Sin embargo, la cubierta con revestimiento CVD TaC posee una notable resistencia al choque térmico, capaz de soportar ciclos rápidos de calentamiento y enfriamiento sin comprometer su integridad estructural. Esta resiliencia surge de la microestructura única de la cubierta de revestimiento CVD TaC, que permite una rápida expansión y contracción sin generar tensiones internas significativas.

Desde ácidos corrosivos hasta disolventes agresivos, el campo de batalla químico puede ser implacable. Sin embargo, la cubierta de revestimiento CVD TaC se mantiene firme y exhibe una resistencia notable a una amplia gama de productos químicos y agentes corrosivos. Esta inercia química lo convierte en una opción ideal para aplicaciones en procesamiento químico, exploración de petróleo y gas y otras industrias donde los componentes están expuestos habitualmente a entornos químicos hostiles.

Recubrimiento de carburo de tantalio (TaC) en una sección transversal microscópica

Otras aplicaciones clave en equipos de epitaxia:

Susceptores y portadores de obleas:Estos componentes sostienen y calientan el sustrato durante el crecimiento epitaxial. Los recubrimientos CVD TaC en susceptores y portadores de obleas proporcionan una distribución uniforme del calor, previenen la contaminación del sustrato y mejoran la resistencia a la deformación y degradación causadas por altas temperaturas y gases reactivos.

Inyectores y Boquillas de Gas:Estos componentes son responsables de entregar flujos precisos de gases reactivos a la superficie del sustrato. Los recubrimientos CVD TaC mejoran su resistencia a la corrosión y la erosión, asegurando un suministro constante de gas y previniendo la contaminación de partículas que podrían alterar el crecimiento de los cristales.

Revestimientos de cámara y escudos térmicos:Las paredes internas de los reactores de epitaxia están sujetas a calor intenso, gases reactivos y posible acumulación de deposiciones. Los recubrimientos CVD TaC protegen estas superficies, extienden su vida útil, minimizan la generación de partículas y simplifican los procedimientos de limpieza.