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Portabrocas de vacío Al2O3

Portabrocas de vacío Al2O3

El portabrocas de vacío Semicorex Al2O3 está diseñado para satisfacer las rigurosas demandas de diversos procesos de producción de semiconductores, incluidos el adelgazamiento, el corte en cubitos, la limpieza y el transporte de obleas. **

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Descripción del Producto



Aplicaciones en la fabricación de semiconductores


El portabrocas de vacío Semicorex Al2O3 es una herramienta versátil que se utiliza en múltiples etapas de la producción de semiconductores:


Dilución: durante el proceso de adelgazamiento de la oblea, el mandril de vacío Al2O3 proporciona un soporte estable y uniforme, lo que garantiza una reducción del sustrato de alta precisión. Esto es crucial para mejorar la disipación de calor del chip y mejorar el rendimiento del dispositivo.


Corte en cubitos: en la etapa de corte en cubitos, donde las obleas se cortan en chips individuales, el mandril de vacío Al2O3 ofrece una adsorción segura y estable, minimizando el riesgo de daños y garantizando cortes limpios.


Limpieza: La superficie de adsorción suave y uniforme del mandril de vacío Al2O3 lo hace apto para procesos de limpieza de obleas, lo que garantiza que los contaminantes se eliminen de manera efectiva sin dañar las obleas.


Transporte: Durante el manejo y transporte de las obleas, el mandril de vacío Al2O3 proporciona un soporte confiable y seguro, lo que reduce el riesgo de daños y contaminación.




semicorexVacíoFlujo de mandril



Ventajas del portabrocas de vacío Semicorex Al2O3


1. Tecnología cerámica microporosa uniforme


El mandril de vacío Al2O3 está fabricado con tecnología cerámica microporosa, que implica el uso de nanopolvos de tamaño uniforme. Esta tecnología garantiza que los poros estén distribuidos e interconectados uniformemente, lo que da como resultado una alta porosidad y una estructura uniformemente densa. Esta uniformidad mejora el rendimiento del mandril de vacío, proporcionando un soporte de oblea consistente y confiable.


2. Propiedades materiales excepcionales


La alúmina (Al2O3) ultrapura al 99,99 % utilizada en el portabrocas de vacío Al2O3 ofrece una gama de propiedades excepcionales:


Propiedades térmicas: Con alta resistencia al calor y excelente conductividad térmica, el mandril de vacío Al2O3 puede soportar las altas temperaturas que se encuentran comúnmente en la fabricación de semiconductores.


Propiedades mecánicas: La alta resistencia y dureza de la alúmina garantizan que el portabrocas de vacío Al2O3 sea duradero y resistente al desgaste, lo que proporciona un rendimiento duradero.


Otras propiedades: La alúmina también ofrece un alto aislamiento eléctrico y resistencia a la corrosión, lo que hace que el mandril de vacío Al2O3 sea adecuado para una amplia gama de entornos de fabricación.


3. Planitud y paralelismo superiores


Una de las principales ventajas del mandril de vacío Al2O3 es su gran planitud y paralelismo. Estas propiedades son cruciales para garantizar un manejo preciso y estable de las obleas, minimizar el riesgo de daños y garantizar resultados de procesamiento consistentes. Además, la buena permeabilidad al aire y la fuerza de adsorción uniforme del mandril de vacío Al2O3 garantizan un funcionamiento suave y confiable.


4. Opciones de personalización


En Semicorex, entendemos que cada proceso de fabricación de semiconductores tiene requisitos únicos. Es por eso que ofrecemos portabrocas de vacío personalizados y diseñados para satisfacer sus necesidades específicas. Dependiendo de la planitud requerida y los costos de producción, recomendamos diferentes materiales base, asegurando que el peso y el rendimiento del mandril de vacío estén optimizados para su aplicación. Estos materiales incluyen acero inoxidable SUS430, aleación de aluminio 6061, cerámica de alúmina densa (color marfil), granito y cerámica de carburo de silicio densa.



Medición CMM del mandril de vacío Al2O3



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