Aplicaciones de material PBN

PBN, o nitruro de boro pirolítico, pertenece al sistema hexagonal y es un material no metálico inorgánico avanzado con una pureza de hasta 99.999%. Tiene buena densidad, sin poros, buen aislamiento y conductividad térmica, alta resistencia a la temperatura, inercia química, resistencia al ácido, resistencia al álcali y resistencia a la oxidación. Tiene anisotropía obvia en propiedades mecánicas, térmicas y eléctricas. Es un componente ideal de crisol y clave en el crecimiento de cristales semiconductores (método VGF, método VB, método LEC, método HB), síntesis policristalina, epitaxia de MBE, evaporación OLED, equipo semiconductor de alta gama, tubos de microondas de alta potencia, etc. PBN se realiza con tecnología de depósito de vapor químico avanzado. Bajo condiciones de alta temperatura y alta vacío, se introducen haluros de boro de alta pureza y amoníaco y otras materias primas en la cámara de reacción de CVD. Después de la reacción de agrietamiento, crece lentamente en la superficie de los sustratos como el grafito. PBN se puede convertir directamente en contenedores como crisoles, barcos y tubos, o se puede depositar primero en placas y luego procesarse en varias partes de PBN. También se puede recubrir en otros sustratos para la protección, y las especificaciones del producto se personalizan de acuerdo con los escenarios de la aplicación. A diferencia del nitruro de boro sinterizado prensado en caliente ordinario, PBN se prepara utilizando deposición avanzada de vapor químico (CVD), que tiene fuertes barreras técnicas y un alto grado de concentración de la industria.

Los productos PBN juegan un papel irremplazable en el campo de semiconductores. Las aplicaciones posteriores implican principalmente crecimiento de cristales, síntesis policristalina, epitaxia del haz molecular (MBE), deposición de vapor químico orgánico (MOCVD), piezas de equipos semiconductores de alta gama, aeroespaciales y otros campos.

1) Crecimiento de cristales

El crecimiento de cristales individuales semiconductores compuestos (como arsenuro de galio, fosfuro de indio, etc.) requiere un ambiente extremadamente estricto, incluida la temperatura, la pureza de las materias primas y la pureza y la inercia química del recipiente de crecimiento. El crisol PBN es actualmente el contenedor más ideal para el crecimiento de un solo cristal de semiconductores compuestos. Los principales métodos para el crecimiento de un solo cristal de semiconductores compuestos son el método LEC, el método HB, el método VB y el método VGF. Los crisoles PBN correspondientes incluyen el crisol con el crisol VB y el crisol VGF.

2) Epitaxia de haz molecular (MBE)

MBE es uno de los procesos de crecimiento epitaxial más importantes de los semiconductores III-V e II-VI en el mundo de hoy. Este tipo de tecnología es un método para cultivar películas delgadas capa por capa a lo largo del eje de cristal del material del sustrato en sustratos apropiados y condiciones adecuadas. El crisol PBN es un recipiente de horno de origen necesario en el proceso MBE.

3) Pantalla de diodos emisores de luz orgánicos (OLED)

Se considera que OLED es una nueva generación de tecnología de pantalla de panel plano debido a sus excelentes características, como la auto-luminiscencia, no se puede usar la luz de fondo, el alto contraste, el grosor delgado, el ángulo de visión amplio, la velocidad de reacción rápida, para paneles flexibles, amplio rango de temperatura de funcionamiento, estructura simple y proceso. El evaporador es el componente central del sistema de evaporación OLED. Entre ellos, el anillo de guía PBN y el crisol son los componentes principales de la unidad de evaporación. El anillo de guía debe tener una buena conductividad térmica y un rendimiento de aislamiento, puede procesarse en formas complejas y no se deforma ni libera gas a altas temperaturas. El crisol debe tener una pureza ultra alta, alta resistencia a la temperatura, aislamiento eléctrico y no humectar con el material fuente. PBN es un material ideal para un uso generalizado.

4) Equipo de semiconductores de alta gama

A medida que los chips de semiconductores continúan desarrollándose hacia la miniaturización y la alta energía, los requisitos para los equipos y sistemas de fabricación de semiconductores están cada vez más altos. Los productos de material PBN se utilizan ampliamente en los componentes centrales de los equipos de alta gama debido a su pureza ultra alta, alta conductividad térmica, aislamiento eléctrico, resistencia a la corrosión, resistencia a la oxidación y diversas anisotropía de rendimiento.

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